🇨🇿 Mitutoyo Česko s.r.o. PL
Metrologie
Mitutoyo Česko s.r.o. ist ein von ČIA unter der Nummer 2390 akkreditiertes Kalibrierlabor (Teplice, Tschechien). Der Akkreditierungsbereich umfasst 18 Kalibrierpositionen in den Bereichen: Metrologie. Kalibriert werden unter anderem: Profilmessgeräte für Oberflächen, Rauheitsmessgeräte, Rundheitsmessgeräte, Koordinatenmessgeräte (CMM). Am häufigsten eingesetzte Kalibrierprinzipien: Messung mit einem Glasmaßstab, Messung mit Laserinterferometer, Messung mit optischer Planglasplatte.
Auf einen Blick
- Akkreditierungsnummer: ČIA 2390
- Kalibrierpositionen im Geltungsbereich: 18
- Arten kalibrierter Gegenstände: 10
- Eingesetzte Kalibrierprinzipien: 11
- Ort: Teplice, Tschechien
- Gültig bis: 21-11-2029
- Akkreditierungsnummer
- 2390
- Akkreditierungsstelle
- ČIA
- Adresse
- Dubská 1635, 415 01 Teplice
- Ort
- Teplice, Tschechien
- Abteilung
- Kalibrierlabor
- Gültig bis
- 21-11-2029
Was dieses Labor kalibriert (10)
- Profilmessgeräte für Oberflächen — 3 Kalibrierpositionen
- Rauheitsmessgeräte — 3 Kalibrierpositionen
- Rundheitsmessgeräte — 3 Kalibrierpositionen
- Koordinatenmessgeräte (CMM) — 2 Kalibrierpositionen
- Koordinatenmessgeräte mit Kamerasystem (VMM) — 2 Kalibrierpositionen
- 1D-Messgeräte (Höhenmessgeräte) — 1 Kalibrierposition
- Messmikroskope — 1 Kalibrierposition
- Profilprojektoren — 1 Kalibrierposition
- Winkelmessabweichung / Profilprojektoren — 1 Kalibrierposition
- Winkelmessabweichung in der XZ-Ebene / Oberflächenprofilmessgeräte — 1 Kalibrierposition
Kalibrierprinzipien (11)
- Messung mit einem Glasmaßstab — 3 Kalibrierpositionen
- Messung mit Laserinterferometer — 3 Kalibrierpositionen
- Messung mit optischer Planglasplatte — 2 Kalibrierpositionen
- Messung mit Parallelendmaßen — 2 Kalibrierpositionen
- Messung mit UDT-Linearitätsnormal — 2 Kalibrierpositionen
- Messung der Lage des Glasmaßstabs durch Drehung der Mattscheibe um 360° — 1 Kalibrierposition
- Messung des 135°-Winkelendmaßes — 1 Kalibrierposition
- Messung mit Bezugshalbkugel — 1 Kalibrierposition
- Messung mit Bezugskugel — 1 Kalibrierposition
- Messung mit Bezugszylinder — 1 Kalibrierposition
- Vergleich mit Rauheitsnormal — 1 Kalibrierposition
Angaben zur Akkreditierungsurkunde
- Datum der Urkunde
- 09.07.2025
Akkreditierungsumfang — Kalibrierpositionen (18)
| Nr. | Kalibrierte Größe / Kalibriergegenstand | Nennbereich / Parameter / CMC | Kalibrierprinzip | Kalibrierverfahren | |
|---|---|---|---|---|---|
| Kalibrierpositionen | |||||
| 1 | Koordinatenmessgeräte (CMM) | Kalibrierung – Länge Räumliche Länge — von 0 m bis 5 m · CMC (0,3L + 0,1) µm CMC für den Messgrößenbereich: Länge |
Messung mit Laserinterferometer | MCZ-PI-KL_SD15_KP01 (ČSN EN ISO 10360-2, ČSN EN ISO 10360-5) | |
| 2 | Koordinatenmessgeräte (CMM) | Kalibrierung – Länge Antastabweichung des Tastsystems — von -1 mm bis 1 mm · CMC 0,2 µm CMC für den Messgrößenbereich: Länge |
Messung mit Bezugskugel | MCZ-PI-KL_SD15_KP01 (ČSN EN ISO 10360-2, ČSN EN ISO 10360-5) | |
| 3 | Koordinatenmessgeräte mit Kamerasystem (VMM) | Kalibrierung – Länge von 0 m bis 1 m · CMC (2,4L + 0,2) µm X-, Y-Achse — von 0 m bis 1 m · CMC (2,4L + 0,2) µm CMC für den Messgrößenbereich: Länge |
Messung mit einem Glasmaßstab | MCZ-PI-KL_SD15_KP06 | |
| 4 | Koordinatenmessgeräte mit Kamerasystem (VMM) | Kalibrierung – Länge Z-Achse — von 0 m bis 0,3 m · CMC (3,1L + 0,3) µm CMC für den Messgrößenbereich: Länge |
Messung mit Parallelendmaßen | MCZ-PI-KL_SD15_KP06 | |
| 5 | Rauheitsmessgeräte | Kalibrierung – Länge Ra — von 0,1 µm bis 50 µm · CMC 3,4 % Rz — von 0,01 µm bis 50 µm · CMC 2,4 % Rsm — von 0,1 µm bis 400 µm · CMC 0,6 % CMC für den Messgrößenbereich: Länge |
Vergleich mit Rauheitsnormal | MCZ-PI-KL_SD15_KP02 (ČSN EN ISO 3274, ČSN EN ISO 12179) | |
| 6 | Rauheitsmessgeräte | Kalibrierung – Länge Linearitätsmessabweichung — von -400 µm bis 400 µm · CMC 4 µm CMC für den Messgrößenbereich: Länge |
Messung mit UDT-Linearitätsnormal | MCZ-PI-KL_SD15_KP02 (ČSN EN ISO 3274, ČSN EN ISO 12179) | |
| 7 | Rauheitsmessgeräte | Kalibrierung – Länge Geradheitsmessabweichung — von -15 µm bis 15 µm · CMC 0,06 µm CMC für den Messgrößenbereich: Länge |
Messung mit optischer Planglasplatte | MCZ-PI-KL_SD15_KP02 (ČSN EN ISO 3274, ČSN EN ISO 12179) | |
| 8 | Profilmessgeräte für Oberflächen | Kalibrierung – Länge X-, Y-Achse — von 0 mm bis 200 mm · CMC (0,3L + 0,2) µm CMC für den Messgrößenbereich: Länge |
Messung mit Laserinterferometer | MCZ-PI-KL_SD15_KP02 (ČSN EN ISO 3274, ČSN EN ISO 12179) | |
| 9 | Profilmessgeräte für Oberflächen | Kalibrierung – Länge Z-Achse — von 0 mm bis 60 mm · CMC (0,3L + 0,2 µm CMC für den Messgrößenbereich: Länge |
Messung mit Parallelendmaßen | MCZ-PI-KL_SD15_KP02 (ČSN EN ISO 3274, ČSN EN ISO 12179) | |
| 10 | Profilmessgeräte für Oberflächen | Kalibrierung – Länge Abweichung bei der Geradheitsmessung — von -15 µm bis 15 µm · CMC 0,06 µm CMC für den Messgrößenbereich: Länge |
Messung mit optischer Planglasplatte | MCZ-PI-KL_SD15_KP02 (ČSN EN ISO 3274, ČSN EN ISO 12179) | |
| 11 | Profilprojektoren | Kalibrierung – Länge von 0 mm bis 200 mm · CMC (8,9L + 1,2) µm Parallelität PXY — von -200 µm bis 200 µm · CMC 1 µm Lage des Fadenkreuzes ECH — von -200 µm bis 200 µm · CMC 4 µm Vergrößerungsabweichung — von -1 % bis 1 % · CMC 0,01 % (abs.) CMC für den Messgrößenbereich: Länge |
Messung mit einem Glasmaßstab | MCZ-PI-KL_SD15_KP03 | |
| 12 | Messmikroskope | Kalibrierung – Länge von 0 mm bis 400 mm · CMC (8,9L + 1,2) µm Parallelität PXY — von -200 µm bis 200 µm · CMC 1 µm CMC für den Messgrößenbereich: Länge |
Messung mit einem Glasmaßstab | MCZ-PI-KL_SD15_KP03 | |
| 13 | 1D-Messgeräte (Höhenmessgeräte) | Kalibrierung – Länge von 0 m bis 1 m · CMC (0,23L + 0,05) µm CMC für den Messgrößenbereich: Länge |
Messung mit Laserinterferometer | MCZ-PI-KL_SD15_KP04 | |
| 14 | Rundheitsmessgeräte | Kalibrierung – Länge Linearitätsmessabweichung des Messtasters — von -400 µm bis 400 µm · CMC 4 µm CMC für den Messgrößenbereich: Länge |
Messung mit UDT-Linearitätsnormal | MCZ-PI-KL_SD15_KP05 | |
| 15 | Rundheitsmessgeräte | Kalibrierung – Länge Axialschlag der Spindel — von -200 µm bis 200 µm · CMC 0,02 µm Radialschlag der Spindel — von -200 µm bis 200 µm · CMC 0,04 µm CMC für den Messgrößenbereich: Länge |
Messung mit Bezugshalbkugel | MCZ-PI-KL_SD15_KP05 | |
| 16 | Rundheitsmessgeräte | Kalibrierung – Länge Zylindrizität — von 0 µm bis 200 µm · CMC 1,8 µm CMC für den Messgrößenbereich: Länge |
Messung mit Bezugszylinder | MCZ-PI-KL_SD15_KP05 | |
| 17 | Winkelmessabweichung in der XZ-Ebene / Oberflächenprofilmessgeräte | Kalibrierung – ebener Winkel 135° · CMC 0,0034° CMC für den Messgrößenbereich: ebener Winkel |
Messung des 135°-Winkelendmaßes | MCZ-PI-KL_SD15_KP02 (ČSN EN ISO 3274, ČSN EN ISO 12179) | |
| 18 | Winkelmessabweichung / Profilprojektoren | Kalibrierung – ebener Winkel 360° · CMC 0,5´ CMC für den Messgrößenbereich: ebener Winkel |
Messung der Lage des Glasmaßstabs durch Drehung der Mattscheibe um 360° | MCZ-PI-KL_SD15_KP03 | |
Bezugsnormen (10)
MCZ-PI-KL_SD15_KP01
MCZ-PI-KL_SD15_KP02
MCZ-PI-KL_SD15_KP03
MCZ-PI-KL_SD15_KP04
MCZ-PI-KL_SD15_KP05
MCZ-PI-KL_SD15_KP06
ČSN EN ISO 10360-2
ČSN EN ISO 10360-5
ČSN EN ISO 12179
ČSN EN ISO 3274