{"lab":{"_id":"6ade8b47ff06824761708133","country":"CZ","accr_number":"2390","accr_body":"ČIA","address":"Dubská 1635, 415 01 Teplice","categories":["metrology"],"city":"Teplice","imported_at":"2026-10-08T12:00:00.000Z","lab_kind":"calibration","location":{"type":"Point","coordinates":[13.8159108,50.648929]},"map_coord":[50.648929,13.8159108],"map_geo":"cai-mapa","methods_count":18,"name":"Mitutoyo Česko s.r.o.","parse_status":"parsed","parse_version":5,"pdf_files":[],"scope_summary":"Wzorcowanie przyrządów pomiarowych w dziedzinach: długość i kąt płaski, w zakresie określonym w załączniku do świadectwa.","search_text":"mitutoyo česko s.r.o. dubská 1635, 415 01 teplice 2390","source_page_url":"https://www.cai.cz/?subjekt=2390-mitutoyo-cesko-s-r-o","status":"active","updated_at":"2026-10-08T12:00:00.000Z","valid_from":"","valid_until":"21-11-2029","website":"www.mitutoyo.cz","certificate_date":"09.07.2025","certificate_no":"346/2025","certificate_replaces":"302/2025 z 23.06.2025","en_official":true,"fields_of_testing":[{"codes":"","pl":"Wzorcowanie przyrządów pomiarowych w dziedzinach: długość i kąt płaski, w zakresie określonym w załączniku do świadectwa.","en":"Calibration of meters in the field of length and plane angle to the extent as specified in the appendix to this Certificate.","zh":"长度和平面角领域测量仪器的校准，范围见本证书附件。","cs":"Kalibrace měřidel v oboru délka a rovinný úhel, vymezené přílohou tohoto osvědčení."}],"flexible_scope":false,"flexible_scope_url":null,"has_en":true,"has_zh":true,"lab_division":"Laboratorium wzorcujące","lab_division_cs":"Kalibrační laboratoř","lab_division_en":"Calibration Laboratory","lab_division_zh":"校准实验室","parse_date":"2026-09-28T12:00:00.000Z","parse_source":"reczna-analiza-labcoda-3","parsed_at":"2026-09-28T12:00:00.000Z","scope_legend":[{"abbr":"L","pl":"długość wyrażona w metrach","en":"Length in metres","zh":"以米表示的长度","cs":"délka vyjádřená v metrech"},{"abbr":"Rovnoběžnost PXY","pl":"równoległość stołu krzyżowego z krzyżem nitkowym PXY","en":"Parallelity of a cross table with a cross hair PXY","zh":"十字工作台与十字线 PXY 的平行度","cs":"rovnoběžnost křížového stolu s nitkovým křížem PXY"}],"scope_notes":[],"source_lang":"cs","source_pdf_sha256":"58055aa13ec4f530ffb0d42a10fe3b64b5c7d64689b2b13473388b5b5342ac55","source_pdf_url":"https://www.cai.cz/OA/pdf/346_2025_CS.pdf","source_pdf_url_en":"https://www.cai.cz/OA/pdf/346_2025_EN.pdf"},"methods":[{"_id":"cb033afe2f51e887ae7abefe","lab_id":"6ade8b47ff06824761708133","country":"CZ","accr_number":"2390","accr_body":"ČIA","row_label":"1","test_object":"Współrzędnościowe maszyny pomiarowe (CMM)","test_object_en":"Coordinate measuring machines (CMM)","test_object_zh":"坐标测量机（CMM）","test_object_cs":"Souřadnicové měřicí stroje (CMM)","methodology":"Wzorcowanie – długość","methodology_en":"Calibration – length","methodology_zh":"校准 – 长度","methodology_cs":"Kalibrace – délka","parameters":[{"name":"Długość przestrzenna","range":"od 0 m do 5 m","cmc":"(0,3L + 0,1) µm"}],"parameters_en":[{"name":"Spatial length","range":"0 m to 5 m","cmc":"(0,3L + 0,1) µm"}],"parameters_zh":[{"name":"空间长度","range":"0 m 至 5 m","cmc":"(0,3L + 0,1) µm"}],"parameters_cs":[{"name":"Prostorová délka","range":"0 m až 5 m","cmc":"(0,3L + 0,1) µm"}],"technique":"Pomiar interferometrem laserowym","technique_en":"Measurement by a laser interferometer","technique_zh":"用激光干涉仪测量","technique_cs":"Měření laserovým interferometrem","techniques":["Pomiar interferometrem laserowym"],"techniques_en":["Measurement by a laser interferometer"],"techniques_zh":["用激光干涉仪测量"],"techniques_cs":["Měření laserovým interferometrem"],"computed":[],"computed_en":[],"computed_zh":[],"computed_cs":[],"activity":"Wzorcowanie – długość\nDługość przestrzenna od 0 m do 5 m CMC (0,3L + 0,1) µm\nPomiar interferometrem laserowym","reference":"MCZ-PI-KL_SD15_KP01 (ČSN EN ISO 10360-2, ČSN EN ISO 10360-5)","norm_bases":["MCZ-PI-KL_SD15_KP01","ČSN EN ISO 10360-2","ČSN EN ISO 10360-5"],"lab_section":null,"lab_section_en":null,"lab_section_zh":null,"lab_section_cs":null,"lab_address":null,"regulatory_area":"CMC dla dziedziny wielkości mierzonej: długość","regulatory_area_en":"CMC for the field of measured quantity: Length","regulatory_area_zh":"被测量领域的CMC：长度","regulatory_area_cs":"CMC pro obor měřené veličiny: Délka","flexible":false,"flexibility":null,"outside_premises":true,"note":null,"note_en":null,"note_zh":null,"note_cs":null,"search_text":"Współrzędnościowe maszyny pomiarowe (CMM) Wzorcowanie – długość Pomiar interferometrem laserowym Długość przestrzenna od 0 m do 5 m CMC (0,3L + 0,1) µm Souřadnicové měřicí stroje (CMM) Kalibrace – délka Měření laserovým interferometrem Prostorová délka 0 m až 5 m CMC (0,3L + 0,1) µm MCZ-PI-KL_SD15_KP01 (ČSN EN ISO 10360-2, ČSN EN ISO 10360-5) Wspolrzednosciowe maszyny pomiarowe (CMM) Wzorcowanie – dlugosc Pomiar interferometrem laserowym Dlugosc przestrzenna od 0 m do 5 m CMC (0,3L + 0,1) µm Souradnicove merici stroje (CMM) Kalibrace – delka Mereni laserovym interferometrem Prostorova delka 0 m az 5 m CMC (0,3L + 0,1) µm MCZ-PI-KL_SD15_KP01 (CSN EN ISO 10360-2, CSN EN ISO 10360-5)","search_en":"Coordinate measuring machines (CMM) Calibration – length Measurement by a laser interferometer Spatial length 0 m to 5 m CMC (0,3L + 0,1) µm MCZ-PI-KL_SD15_KP01 (ČSN EN ISO 10360-2, ČSN EN ISO 10360-5)","search_zh":"坐标测量机（CMM） 校准 – 长度 用激光干涉仪测量 空间长度 0 m 至 5 m CMC (0,3L + 0,1) µm MCZ-PI-KL_SD15_KP01 (ČSN EN ISO 10360-2, ČSN EN ISO 10360-5)","categories":["metrology"],"categories_source":"reczne","source_lang":"cs","translation":{"pl":"reczna-analiza-labcoda-3","en":"CIA-oficjalne","zh":"reczna-analiza-labcoda-3"},"row_index":0,"parse_version":5,"parse_source":"reczna-analiza-labcoda-3"},{"_id":"ed78e8a113d2e02aaedba102","lab_id":"6ade8b47ff06824761708133","country":"CZ","accr_number":"2390","accr_body":"ČIA","row_label":"1","test_object":"Współrzędnościowe maszyny pomiarowe (CMM)","test_object_en":"Coordinate measuring machines (CMM)","test_object_zh":"坐标测量机（CMM）","test_object_cs":"Souřadnicové měřicí stroje (CMM)","methodology":"Wzorcowanie – długość","methodology_en":"Calibration – length","methodology_zh":"校准 – 长度","methodology_cs":"Kalibrace – délka","parameters":[{"name":"Błąd układu stykowego","range":"od -1 mm do 1 mm","cmc":"0,2 µm"}],"parameters_en":[{"name":"Sensing system error","range":"-1 mm to 1 mm","cmc":"0,2 µm"}],"parameters_zh":[{"name":"测头系统误差","range":"-1 mm 至 1 mm","cmc":"0,2 µm"}],"parameters_cs":[{"name":"Chyba snímacího systému","range":"-1 mm až 1 mm","cmc":"0,2 µm"}],"technique":"Pomiar kulą odniesienia","technique_en":"Reference ball measurement","technique_zh":"用参考球测量","technique_cs":"Měření referenční koulí","techniques":["Pomiar kulą odniesienia"],"techniques_en":["Reference ball measurement"],"techniques_zh":["用参考球测量"],"techniques_cs":["Měření referenční koulí"],"computed":[],"computed_en":[],"computed_zh":[],"computed_cs":[],"activity":"Wzorcowanie – długość\nBłąd układu stykowego od -1 mm do 1 mm CMC 0,2 µm\nPomiar kulą odniesienia","reference":"MCZ-PI-KL_SD15_KP01 (ČSN EN ISO 10360-2, ČSN EN ISO 10360-5)","norm_bases":["MCZ-PI-KL_SD15_KP01","ČSN EN ISO 10360-2","ČSN EN ISO 10360-5"],"lab_section":null,"lab_section_en":null,"lab_section_zh":null,"lab_section_cs":null,"lab_address":null,"regulatory_area":"CMC dla dziedziny wielkości mierzonej: długość","regulatory_area_en":"CMC for the field of measured quantity: Length","regulatory_area_zh":"被测量领域的CMC：长度","regulatory_area_cs":"CMC pro obor měřené veličiny: Délka","flexible":false,"flexibility":null,"outside_premises":true,"note":null,"note_en":null,"note_zh":null,"note_cs":null,"search_text":"Współrzędnościowe maszyny pomiarowe (CMM) Wzorcowanie – długość Pomiar kulą odniesienia Błąd układu stykowego od -1 mm do 1 mm CMC 0,2 µm Souřadnicové měřicí stroje (CMM) Kalibrace – délka Měření referenční koulí Chyba snímacího systému -1 mm až 1 mm CMC 0,2 µm MCZ-PI-KL_SD15_KP01 (ČSN EN ISO 10360-2, ČSN EN ISO 10360-5) Wspolrzednosciowe maszyny pomiarowe (CMM) Wzorcowanie – dlugosc Pomiar kula odniesienia Blad ukladu stykowego od -1 mm do 1 mm CMC 0,2 µm Souradnicove merici stroje (CMM) Kalibrace – delka Mereni referencni kouli Chyba snimaciho systemu -1 mm az 1 mm CMC 0,2 µm MCZ-PI-KL_SD15_KP01 (CSN EN ISO 10360-2, CSN EN ISO 10360-5)","search_en":"Coordinate measuring machines (CMM) Calibration – length Reference ball measurement Sensing system error -1 mm to 1 mm CMC 0,2 µm MCZ-PI-KL_SD15_KP01 (ČSN EN ISO 10360-2, ČSN EN ISO 10360-5)","search_zh":"坐标测量机（CMM） 校准 – 长度 用参考球测量 测头系统误差 -1 mm 至 1 mm CMC 0,2 µm MCZ-PI-KL_SD15_KP01 (ČSN EN ISO 10360-2, ČSN EN ISO 10360-5)","categories":["metrology"],"categories_source":"reczne","source_lang":"cs","translation":{"pl":"reczna-analiza-labcoda-3","en":"CIA-oficjalne","zh":"reczna-analiza-labcoda-3"},"row_index":1,"parse_version":5,"parse_source":"reczna-analiza-labcoda-3"},{"_id":"3d2324b29c07b4551a0b7d53","lab_id":"6ade8b47ff06824761708133","country":"CZ","accr_number":"2390","accr_body":"ČIA","row_label":"2","test_object":"Współrzędnościowe maszyny pomiarowe z systemem kamerowym (VMM)","test_object_en":"Coordinate measuring machines equipped with a camera system (VMM)","test_object_zh":"带摄像系统的坐标测量机（VMM）","test_object_cs":"Souřadnicové měřicí stroje vybavené kamerovým systémem (VMM)","methodology":"Wzorcowanie – długość","methodology_en":"Calibration – length","methodology_zh":"校准 – 长度","methodology_cs":"Kalibrace – délka","parameters":[{"name":"","range":"od 0 m do 1 m","cmc":"(2,4L + 0,2) µm"},{"name":"oś X, Y","range":"od 0 m do 1 m","cmc":"(2,4L + 0,2) µm"}],"parameters_en":[{"name":"","range":"0 m to 1 m","cmc":"(2,4L + 0,2) µm"},{"name":"axes X, Y","range":"0 m to 1 m","cmc":"(2,4L + 0,2) µm"}],"parameters_zh":[{"name":"","range":"0 m 至 1 m","cmc":"(2,4L + 0,2) µm"},{"name":"X、Y 轴","range":"0 m 至 1 m","cmc":"(2,4L + 0,2) µm"}],"parameters_cs":[{"name":"","range":"0 m až 1 m","cmc":"(2,4L + 0,2) µm"},{"name":"osa X, Y","range":"0 m až 1 m","cmc":"(2,4L + 0,2) µm"}],"technique":"Pomiar za pomocą liniału szklanego","technique_en":"Measurement with a glass gauge","technique_zh":"使用玻璃尺测量","technique_cs":"Měření pomocí skleněného měřítka","techniques":["Pomiar za pomocą liniału szklanego"],"techniques_en":["Measurement with a glass gauge"],"techniques_zh":["使用玻璃尺测量"],"techniques_cs":["Měření pomocí skleněného měřítka"],"computed":[],"computed_en":[],"computed_zh":[],"computed_cs":[],"activity":"Wzorcowanie – długość\nZakres:\nod 0 m do 1 m CMC (2,4L + 0,2) µm\noś X, Y od 0 m do 1 m CMC (2,4L + 0,2) µm\nPomiar za pomocą liniału szklanego","reference":"MCZ-PI-KL_SD15_KP06","norm_bases":["MCZ-PI-KL_SD15_KP06"],"lab_section":null,"lab_section_en":null,"lab_section_zh":null,"lab_section_cs":null,"lab_address":null,"regulatory_area":"CMC dla dziedziny wielkości mierzonej: długość","regulatory_area_en":"CMC for the field of measured quantity: Length","regulatory_area_zh":"被测量领域的CMC：长度","regulatory_area_cs":"CMC pro obor měřené veličiny: Délka","flexible":false,"flexibility":null,"outside_premises":true,"note":null,"note_en":null,"note_zh":null,"note_cs":null,"search_text":"Współrzędnościowe maszyny pomiarowe z systemem kamerowym (VMM) Wzorcowanie – długość Pomiar za pomocą liniału szklanego od 0 m do 1 m CMC (2,4L + 0,2) µm oś X, Y od 0 m do 1 m CMC (2,4L + 0,2) µm Souřadnicové měřicí stroje vybavené kamerovým systémem (VMM) Kalibrace – délka Měření pomocí skleněného měřítka 0 m až 1 m CMC (2,4L + 0,2) µm osa X, Y 0 m až 1 m CMC (2,4L + 0,2) µm MCZ-PI-KL_SD15_KP06 Wspolrzednosciowe maszyny pomiarowe z systemem kamerowym (VMM) Wzorcowanie – dlugosc Pomiar za pomoca linialu szklanego od 0 m do 1 m CMC (2,4L + 0,2) µm os X, Y od 0 m do 1 m CMC (2,4L + 0,2) µm Souradnicove merici stroje vybavene kamerovym systemem (VMM) Kalibrace – delka Mereni pomoci skleneneho meritka 0 m az 1 m CMC (2,4L + 0,2) µm osa X, Y 0 m az 1 m CMC (2,4L + 0,2) µm MCZ-PI-KL_SD15_KP06","search_en":"Coordinate measuring machines equipped with a camera system (VMM) Calibration – length Measurement with a glass gauge 0 m to 1 m CMC (2,4L + 0,2) µm axes X, Y 0 m to 1 m CMC (2,4L + 0,2) µm MCZ-PI-KL_SD15_KP06","search_zh":"带摄像系统的坐标测量机（VMM） 校准 – 长度 使用玻璃尺测量 0 m 至 1 m CMC (2,4L + 0,2) µm X、Y 轴 0 m 至 1 m CMC (2,4L + 0,2) µm MCZ-PI-KL_SD15_KP06","categories":["metrology"],"categories_source":"reczne","source_lang":"cs","translation":{"pl":"reczna-analiza-labcoda-3","en":"CIA-oficjalne","zh":"reczna-analiza-labcoda-3"},"row_index":2,"parse_version":5,"parse_source":"reczna-analiza-labcoda-3"},{"_id":"ad99d2c852abba00b294a1e7","lab_id":"6ade8b47ff06824761708133","country":"CZ","accr_number":"2390","accr_body":"ČIA","row_label":"2","test_object":"Współrzędnościowe maszyny pomiarowe z systemem kamerowym (VMM)","test_object_en":"Coordinate measuring machines equipped with a camera system (VMM)","test_object_zh":"带摄像系统的坐标测量机（VMM）","test_object_cs":"Souřadnicové měřicí stroje vybavené kamerovým systémem (VMM)","methodology":"Wzorcowanie – długość","methodology_en":"Calibration – length","methodology_zh":"校准 – 长度","methodology_cs":"Kalibrace – délka","parameters":[{"name":"oś Z","range":"od 0 m do 0,3 m","cmc":"(3,1L + 0,3) µm"}],"parameters_en":[{"name":"Z-axis","range":"0 m to 0,3 m","cmc":"(3,1L + 0,3) µm"}],"parameters_zh":[{"name":"Z 轴","range":"0 m 至 0,3 m","cmc":"(3,1L + 0,3) µm"}],"parameters_cs":[{"name":"osa Z","range":"0 m až 0,3 m","cmc":"(3,1L + 0,3) µm"}],"technique":"Pomiar za pomocą płytek wzorcowych","technique_en":"Measurement using parallel gauge blocks","technique_zh":"使用量块测量","technique_cs":"Měření pomocí koncových měrek","techniques":["Pomiar za pomocą płytek wzorcowych"],"techniques_en":["Measurement using parallel gauge blocks"],"techniques_zh":["使用量块测量"],"techniques_cs":["Měření pomocí koncových měrek"],"computed":[],"computed_en":[],"computed_zh":[],"computed_cs":[],"activity":"Wzorcowanie – długość\noś Z od 0 m do 0,3 m CMC (3,1L + 0,3) µm\nPomiar za pomocą płytek wzorcowych","reference":"MCZ-PI-KL_SD15_KP06","norm_bases":["MCZ-PI-KL_SD15_KP06"],"lab_section":null,"lab_section_en":null,"lab_section_zh":null,"lab_section_cs":null,"lab_address":null,"regulatory_area":"CMC dla dziedziny wielkości mierzonej: długość","regulatory_area_en":"CMC for the field of measured quantity: Length","regulatory_area_zh":"被测量领域的CMC：长度","regulatory_area_cs":"CMC pro obor měřené veličiny: Délka","flexible":false,"flexibility":null,"outside_premises":true,"note":null,"note_en":null,"note_zh":null,"note_cs":null,"search_text":"Współrzędnościowe maszyny pomiarowe z systemem kamerowym (VMM) Wzorcowanie – długość Pomiar za pomocą płytek wzorcowych oś Z od 0 m do 0,3 m CMC (3,1L + 0,3) µm Souřadnicové měřicí stroje vybavené kamerovým systémem (VMM) Kalibrace – délka Měření pomocí koncových měrek osa Z 0 m až 0,3 m CMC (3,1L + 0,3) µm MCZ-PI-KL_SD15_KP06 Wspolrzednosciowe maszyny pomiarowe z systemem kamerowym (VMM) Wzorcowanie – dlugosc Pomiar za pomoca plytek wzorcowych os Z od 0 m do 0,3 m CMC (3,1L + 0,3) µm Souradnicove merici stroje vybavene kamerovym systemem (VMM) Kalibrace – delka Mereni pomoci koncovych merek osa Z 0 m az 0,3 m CMC (3,1L + 0,3) µm MCZ-PI-KL_SD15_KP06","search_en":"Coordinate measuring machines equipped with a camera system (VMM) Calibration – length Measurement using parallel gauge blocks Z-axis 0 m to 0,3 m CMC (3,1L + 0,3) µm MCZ-PI-KL_SD15_KP06","search_zh":"带摄像系统的坐标测量机（VMM） 校准 – 长度 使用量块测量 Z 轴 0 m 至 0,3 m CMC (3,1L + 0,3) µm MCZ-PI-KL_SD15_KP06","categories":["metrology"],"categories_source":"reczne","source_lang":"cs","translation":{"pl":"reczna-analiza-labcoda-3","en":"CIA-oficjalne","zh":"reczna-analiza-labcoda-3"},"row_index":3,"parse_version":5,"parse_source":"reczna-analiza-labcoda-3"},{"_id":"d5a356dcadd1d27bdba7282e","lab_id":"6ade8b47ff06824761708133","country":"CZ","accr_number":"2390","accr_body":"ČIA","row_label":"3","test_object":"Przyrządy do pomiaru chropowatości powierzchni","test_object_en":"Surface roughness measuring instruments","test_object_zh":"表面粗糙度测量仪","test_object_cs":"Přístroje na měření drsnosti povrchu","methodology":"Wzorcowanie – długość","methodology_en":"Calibration – length","methodology_zh":"校准 – 长度","methodology_cs":"Kalibrace – délka","parameters":[{"name":"Ra","range":"od 0,1 µm do 50 µm","cmc":"3,4 %"},{"name":"Rz","range":"od 0,01 µm do 50 µm","cmc":"2,4 %"},{"name":"Rsm","range":"od 0,1 µm do 400 µm","cmc":"0,6 %"}],"parameters_en":[{"name":"Ra","range":"0,1 µm to 50 µm","cmc":"3,4 %"},{"name":"Rz","range":"0,01 µm to 50 µm","cmc":"2,4 %"},{"name":"Rsm","range":"0,1 µm to 400 µm","cmc":"0,6 %"}],"parameters_zh":[{"name":"Ra 参数","range":"0,1 µm 至 50 µm","cmc":"3,4 %"},{"name":"Rz 参数","range":"0,01 µm 至 50 µm","cmc":"2,4 %"},{"name":"Rsm 参数","range":"0,1 µm 至 400 µm","cmc":"0,6 %"}],"parameters_cs":[{"name":"Ra","range":"0,1 µm až 50 µm","cmc":"3,4 %"},{"name":"Rz","range":"0,01 µm až 50 µm","cmc":"2,4 %"},{"name":"Rsm","range":"0,1 µm až 400 µm","cmc":"0,6 %"}],"technique":"Porównanie z wzorcem chropowatości","technique_en":"Comparison with a roughness standard","technique_zh":"与粗糙度标准比较","technique_cs":"Porovnání s etalonem drsnosti","techniques":["Porównanie z wzorcem chropowatości"],"techniques_en":["Comparison with a roughness standard"],"techniques_zh":["与粗糙度标准比较"],"techniques_cs":["Porovnání s etalonem drsnosti"],"computed":[],"computed_en":[],"computed_zh":[],"computed_cs":[],"activity":"Wzorcowanie – długość\nZakres:\nRa od 0,1 µm do 50 µm CMC 3,4 %\nRz od 0,01 µm do 50 µm CMC 2,4 %\nRsm od 0,1 µm do 400 µm CMC 0,6 %\nPorównanie z wzorcem chropowatości","reference":"MCZ-PI-KL_SD15_KP02 (ČSN EN ISO 3274, ČSN EN ISO 12179)","norm_bases":["MCZ-PI-KL_SD15_KP02","ČSN EN ISO 3274","ČSN EN ISO 12179"],"lab_section":null,"lab_section_en":null,"lab_section_zh":null,"lab_section_cs":null,"lab_address":null,"regulatory_area":"CMC dla dziedziny wielkości mierzonej: długość","regulatory_area_en":"CMC for the field of measured quantity: Length","regulatory_area_zh":"被测量领域的CMC：长度","regulatory_area_cs":"CMC pro obor měřené veličiny: Délka","flexible":false,"flexibility":null,"outside_premises":true,"note":null,"note_en":null,"note_zh":null,"note_cs":null,"search_text":"Przyrządy do pomiaru chropowatości powierzchni Wzorcowanie – długość Porównanie z wzorcem chropowatości Ra od 0,1 µm do 50 µm CMC 3,4 % Rz od 0,01 µm do 50 µm CMC 2,4 % Rsm od 0,1 µm do 400 µm CMC 0,6 % Přístroje na měření drsnosti povrchu Kalibrace – délka Porovnání s etalonem drsnosti Ra 0,1 µm až 50 µm CMC 3,4 % Rz 0,01 µm až 50 µm CMC 2,4 % Rsm 0,1 µm až 400 µm CMC 0,6 % MCZ-PI-KL_SD15_KP02 (ČSN EN ISO 3274, ČSN EN ISO 12179) Przyrzady do pomiaru chropowatosci powierzchni Wzorcowanie – dlugosc Porownanie z wzorcem chropowatosci Ra od 0,1 µm do 50 µm CMC 3,4 % Rz od 0,01 µm do 50 µm CMC 2,4 % Rsm od 0,1 µm do 400 µm CMC 0,6 % Pristroje na mereni drsnosti povrchu Kalibrace – delka Porovnani s etalonem drsnosti Ra 0,1 µm az 50 µm CMC 3,4 % Rz 0,01 µm az 50 µm CMC 2,4 % Rsm 0,1 µm az 400 µm CMC 0,6 % MCZ-PI-KL_SD15_KP02 (CSN EN ISO 3274, CSN EN ISO 12179)","search_en":"Surface roughness measuring instruments Calibration – length Comparison with a roughness standard Ra 0,1 µm to 50 µm CMC 3,4 % Rz 0,01 µm to 50 µm CMC 2,4 % Rsm 0,1 µm to 400 µm CMC 0,6 % MCZ-PI-KL_SD15_KP02 (ČSN EN ISO 3274, ČSN EN ISO 12179)","search_zh":"表面粗糙度测量仪 校准 – 长度 与粗糙度标准比较 Ra 参数 0,1 µm 至 50 µm CMC 3,4 % Rz 参数 0,01 µm 至 50 µm CMC 2,4 % Rsm 参数 0,1 µm 至 400 µm CMC 0,6 % MCZ-PI-KL_SD15_KP02 (ČSN EN ISO 3274, ČSN EN ISO 12179)","categories":["metrology"],"categories_source":"reczne","source_lang":"cs","translation":{"pl":"reczna-analiza-labcoda-3","en":"CIA-oficjalne","zh":"reczna-analiza-labcoda-3"},"row_index":4,"parse_version":5,"parse_source":"reczna-analiza-labcoda-3"},{"_id":"48c5b2aa8777296e3ccab021","lab_id":"6ade8b47ff06824761708133","country":"CZ","accr_number":"2390","accr_body":"ČIA","row_label":"3","test_object":"Przyrządy do pomiaru chropowatości powierzchni","test_object_en":"Surface roughness measuring instruments","test_object_zh":"表面粗糙度测量仪","test_object_cs":"Přístroje na měření drsnosti povrchu","methodology":"Wzorcowanie – długość","methodology_en":"Calibration – length","methodology_zh":"校准 – 长度","methodology_cs":"Kalibrace – délka","parameters":[{"name":"Błąd pomiaru liniowości","range":"od -400 µm do 400 µm","cmc":"4 µm"}],"parameters_en":[{"name":"Linearity measurement error","range":"-400 µm to 400 µm","cmc":"4 µm"}],"parameters_zh":[{"name":"线性测量误差","range":"-400 µm 至 400 µm","cmc":"4 µm"}],"parameters_cs":[{"name":"Chyba měření linearity","range":"-400 µm až 400 µm","cmc":"4 µm"}],"technique":"Pomiar wzorcem liniowości UDT","technique_en":"Measurement with UDT linearity standard","technique_zh":"用 UDT 线性标准测量","technique_cs":"Měření etalonem linearity UDT","techniques":["Pomiar wzorcem liniowości UDT"],"techniques_en":["Measurement with UDT linearity standard"],"techniques_zh":["用 UDT 线性标准测量"],"techniques_cs":["Měření etalonem linearity UDT"],"computed":[],"computed_en":[],"computed_zh":[],"computed_cs":[],"activity":"Wzorcowanie – długość\nBłąd pomiaru liniowości od -400 µm do 400 µm CMC 4 µm\nPomiar wzorcem liniowości UDT","reference":"MCZ-PI-KL_SD15_KP02 (ČSN EN ISO 3274, ČSN EN ISO 12179)","norm_bases":["MCZ-PI-KL_SD15_KP02","ČSN EN ISO 3274","ČSN EN ISO 12179"],"lab_section":null,"lab_section_en":null,"lab_section_zh":null,"lab_section_cs":null,"lab_address":null,"regulatory_area":"CMC dla dziedziny wielkości mierzonej: długość","regulatory_area_en":"CMC for the field of measured quantity: Length","regulatory_area_zh":"被测量领域的CMC：长度","regulatory_area_cs":"CMC pro obor měřené veličiny: Délka","flexible":false,"flexibility":null,"outside_premises":true,"note":null,"note_en":null,"note_zh":null,"note_cs":null,"search_text":"Przyrządy do pomiaru chropowatości powierzchni Wzorcowanie – długość Pomiar wzorcem liniowości UDT Błąd pomiaru liniowości od -400 µm do 400 µm CMC 4 µm Přístroje na měření drsnosti povrchu Kalibrace – délka Měření etalonem linearity UDT Chyba měření linearity -400 µm až 400 µm CMC 4 µm MCZ-PI-KL_SD15_KP02 (ČSN EN ISO 3274, ČSN EN ISO 12179) Przyrzady do pomiaru chropowatosci powierzchni Wzorcowanie – dlugosc Pomiar wzorcem liniowosci UDT Blad pomiaru liniowosci od -400 µm do 400 µm CMC 4 µm Pristroje na mereni drsnosti povrchu Kalibrace – delka Mereni etalonem linearity UDT Chyba mereni linearity -400 µm az 400 µm CMC 4 µm MCZ-PI-KL_SD15_KP02 (CSN EN ISO 3274, CSN EN ISO 12179)","search_en":"Surface roughness measuring instruments Calibration – length Measurement with UDT linearity standard Linearity measurement error -400 µm to 400 µm CMC 4 µm MCZ-PI-KL_SD15_KP02 (ČSN EN ISO 3274, ČSN EN ISO 12179)","search_zh":"表面粗糙度测量仪 校准 – 长度 用 UDT 线性标准测量 线性测量误差 -400 µm 至 400 µm CMC 4 µm MCZ-PI-KL_SD15_KP02 (ČSN EN ISO 3274, ČSN EN ISO 12179)","categories":["metrology"],"categories_source":"reczne","source_lang":"cs","translation":{"pl":"reczna-analiza-labcoda-3","en":"CIA-oficjalne","zh":"reczna-analiza-labcoda-3"},"row_index":5,"parse_version":5,"parse_source":"reczna-analiza-labcoda-3"},{"_id":"82ac3d5aba444c113a8d3e64","lab_id":"6ade8b47ff06824761708133","country":"CZ","accr_number":"2390","accr_body":"ČIA","row_label":"3","test_object":"Przyrządy do pomiaru chropowatości powierzchni","test_object_en":"Surface roughness measuring instruments","test_object_zh":"表面粗糙度测量仪","test_object_cs":"Přístroje na měření drsnosti povrchu","methodology":"Wzorcowanie – długość","methodology_en":"Calibration – length","methodology_zh":"校准 – 长度","methodology_cs":"Kalibrace – délka","parameters":[{"name":"Błąd pomiaru prostoliniowości","range":"od -15 µm do 15 µm","cmc":"0,06 µm"}],"parameters_en":[{"name":"Straightness measurement error","range":"-15 µm to 15 µm","cmc":"0,06 µm"}],"parameters_zh":[{"name":"直线度测量误差","range":"-15 µm 至 15 µm","cmc":"0,06 µm"}],"parameters_cs":[{"name":"Chyba měření přímosti","range":"-15 µm až 15 µm","cmc":"0,06 µm"}],"technique":"Pomiar wzorcem płaszczyzny optycznej","technique_en":"Measurement with an optical plane standard","technique_zh":"用光学平面标准测量","technique_cs":"Měření etalonem optické roviny","techniques":["Pomiar wzorcem płaszczyzny optycznej"],"techniques_en":["Measurement with an optical plane standard"],"techniques_zh":["用光学平面标准测量"],"techniques_cs":["Měření etalonem optické roviny"],"computed":[],"computed_en":[],"computed_zh":[],"computed_cs":[],"activity":"Wzorcowanie – długość\nBłąd pomiaru prostoliniowości od -15 µm do 15 µm CMC 0,06 µm\nPomiar wzorcem płaszczyzny optycznej","reference":"MCZ-PI-KL_SD15_KP02 (ČSN EN ISO 3274, ČSN EN ISO 12179)","norm_bases":["MCZ-PI-KL_SD15_KP02","ČSN EN ISO 3274","ČSN EN ISO 12179"],"lab_section":null,"lab_section_en":null,"lab_section_zh":null,"lab_section_cs":null,"lab_address":null,"regulatory_area":"CMC dla dziedziny wielkości mierzonej: długość","regulatory_area_en":"CMC for the field of measured quantity: Length","regulatory_area_zh":"被测量领域的CMC：长度","regulatory_area_cs":"CMC pro obor měřené veličiny: Délka","flexible":false,"flexibility":null,"outside_premises":true,"note":null,"note_en":null,"note_zh":null,"note_cs":null,"search_text":"Przyrządy do pomiaru chropowatości powierzchni Wzorcowanie – długość Pomiar wzorcem płaszczyzny optycznej Błąd pomiaru prostoliniowości od -15 µm do 15 µm CMC 0,06 µm Přístroje na měření drsnosti povrchu Kalibrace – délka Měření etalonem optické roviny Chyba měření přímosti -15 µm až 15 µm CMC 0,06 µm MCZ-PI-KL_SD15_KP02 (ČSN EN ISO 3274, ČSN EN ISO 12179) Przyrzady do pomiaru chropowatosci powierzchni Wzorcowanie – dlugosc Pomiar wzorcem plaszczyzny optycznej Blad pomiaru prostoliniowosci od -15 µm do 15 µm CMC 0,06 µm Pristroje na mereni drsnosti povrchu Kalibrace – delka Mereni etalonem opticke roviny Chyba mereni primosti -15 µm az 15 µm CMC 0,06 µm MCZ-PI-KL_SD15_KP02 (CSN EN ISO 3274, CSN EN ISO 12179)","search_en":"Surface roughness measuring instruments Calibration – length Measurement with an optical plane standard Straightness measurement error -15 µm to 15 µm CMC 0,06 µm MCZ-PI-KL_SD15_KP02 (ČSN EN ISO 3274, ČSN EN ISO 12179)","search_zh":"表面粗糙度测量仪 校准 – 长度 用光学平面标准测量 直线度测量误差 -15 µm 至 15 µm CMC 0,06 µm MCZ-PI-KL_SD15_KP02 (ČSN EN ISO 3274, ČSN EN ISO 12179)","categories":["metrology"],"categories_source":"reczne","source_lang":"cs","translation":{"pl":"reczna-analiza-labcoda-3","en":"CIA-oficjalne","zh":"reczna-analiza-labcoda-3"},"row_index":6,"parse_version":5,"parse_source":"reczna-analiza-labcoda-3"},{"_id":"4ba40bcca9d6702ffe7dd74b","lab_id":"6ade8b47ff06824761708133","country":"CZ","accr_number":"2390","accr_body":"ČIA","row_label":"4","test_object":"Przyrządy do pomiaru profilu powierzchni","test_object_en":"Surface profile measuring instruments","test_object_zh":"表面轮廓测量仪","test_object_cs":"Přístroje na měření profilu povrchu","methodology":"Wzorcowanie – długość","methodology_en":"Calibration – length","methodology_zh":"校准 – 长度","methodology_cs":"Kalibrace – délka","parameters":[{"name":"oś X, Y","range":"od 0 mm do 200 mm","cmc":"(0,3L + 0,2) µm"}],"parameters_en":[{"name":"axes X, Y","range":"0 mm to 200 mm","cmc":"(0,3L + 0,2) µm"}],"parameters_zh":[{"name":"X、Y 轴","range":"0 mm 至 200 mm","cmc":"(0,3L + 0,2) µm"}],"parameters_cs":[{"name":"osa X, Y","range":"0 mm až 200 mm","cmc":"(0,3L + 0,2) µm"}],"technique":"Pomiar interferometrem laserowym","technique_en":"Measurement by a laser interferometer","technique_zh":"用激光干涉仪测量","technique_cs":"Měření laserovým interferometrem","techniques":["Pomiar interferometrem laserowym"],"techniques_en":["Measurement by a laser interferometer"],"techniques_zh":["用激光干涉仪测量"],"techniques_cs":["Měření laserovým interferometrem"],"computed":[],"computed_en":[],"computed_zh":[],"computed_cs":[],"activity":"Wzorcowanie – długość\noś X, Y od 0 mm do 200 mm CMC (0,3L + 0,2) µm\nPomiar interferometrem laserowym","reference":"MCZ-PI-KL_SD15_KP02 (ČSN EN ISO 3274, ČSN EN ISO 12179)","norm_bases":["MCZ-PI-KL_SD15_KP02","ČSN EN ISO 3274","ČSN EN ISO 12179"],"lab_section":null,"lab_section_en":null,"lab_section_zh":null,"lab_section_cs":null,"lab_address":null,"regulatory_area":"CMC dla dziedziny wielkości mierzonej: długość","regulatory_area_en":"CMC for the field of measured quantity: Length","regulatory_area_zh":"被测量领域的CMC：长度","regulatory_area_cs":"CMC pro obor měřené veličiny: Délka","flexible":false,"flexibility":null,"outside_premises":true,"note":null,"note_en":null,"note_zh":null,"note_cs":null,"search_text":"Przyrządy do pomiaru profilu powierzchni Wzorcowanie – długość Pomiar interferometrem laserowym oś X, Y od 0 mm do 200 mm CMC (0,3L + 0,2) µm Přístroje na měření profilu povrchu Kalibrace – délka Měření laserovým interferometrem osa X, Y 0 mm až 200 mm CMC (0,3L + 0,2) µm MCZ-PI-KL_SD15_KP02 (ČSN EN ISO 3274, ČSN EN ISO 12179) Przyrzady do pomiaru profilu powierzchni Wzorcowanie – dlugosc Pomiar interferometrem laserowym os X, Y od 0 mm do 200 mm CMC (0,3L + 0,2) µm Pristroje na mereni profilu povrchu Kalibrace – delka Mereni laserovym interferometrem osa X, Y 0 mm az 200 mm CMC (0,3L + 0,2) µm MCZ-PI-KL_SD15_KP02 (CSN EN ISO 3274, CSN EN ISO 12179)","search_en":"Surface profile measuring instruments Calibration – length Measurement by a laser interferometer axes X, Y 0 mm to 200 mm CMC (0,3L + 0,2) µm MCZ-PI-KL_SD15_KP02 (ČSN EN ISO 3274, ČSN EN ISO 12179)","search_zh":"表面轮廓测量仪 校准 – 长度 用激光干涉仪测量 X、Y 轴 0 mm 至 200 mm CMC (0,3L + 0,2) µm MCZ-PI-KL_SD15_KP02 (ČSN EN ISO 3274, ČSN EN ISO 12179)","categories":["metrology"],"categories_source":"reczne","source_lang":"cs","translation":{"pl":"reczna-analiza-labcoda-3","en":"CIA-oficjalne","zh":"reczna-analiza-labcoda-3"},"row_index":7,"parse_version":5,"parse_source":"reczna-analiza-labcoda-3"},{"_id":"b5d06bb034270341fd9bbce4","lab_id":"6ade8b47ff06824761708133","country":"CZ","accr_number":"2390","accr_body":"ČIA","row_label":"4","test_object":"Przyrządy do pomiaru profilu powierzchni","test_object_en":"Surface profile measuring instruments","test_object_zh":"表面轮廓测量仪","test_object_cs":"Přístroje na měření profilu povrchu","methodology":"Wzorcowanie – długość","methodology_en":"Calibration – length","methodology_zh":"校准 – 长度","methodology_cs":"Kalibrace – délka","parameters":[{"name":"oś Z","range":"od 0 mm do 60 mm","cmc":"(0,3L + 0,2 µm"}],"parameters_en":[{"name":"Z-axis","range":"0 mm to 60 mm","cmc":"(0,3L + 0,2 µm"}],"parameters_zh":[{"name":"Z 轴","range":"0 mm 至 60 mm","cmc":"(0,3L + 0,2 µm"}],"parameters_cs":[{"name":"osa Z","range":"0 mm až 60 mm","cmc":"(0,3L + 0,2 µm"}],"technique":"Pomiar za pomocą płytek wzorcowych","technique_en":"Measurement using parallel gauge blocks","technique_zh":"使用量块测量","technique_cs":"Měření pomocí koncových měrek","techniques":["Pomiar za pomocą płytek wzorcowych"],"techniques_en":["Measurement using parallel gauge blocks"],"techniques_zh":["使用量块测量"],"techniques_cs":["Měření pomocí koncových měrek"],"computed":[],"computed_en":[],"computed_zh":[],"computed_cs":[],"activity":"Wzorcowanie – długość\noś Z od 0 mm do 60 mm CMC (0,3L + 0,2 µm\nPomiar za pomocą płytek wzorcowych","reference":"MCZ-PI-KL_SD15_KP02 (ČSN EN ISO 3274, ČSN EN ISO 12179)","norm_bases":["MCZ-PI-KL_SD15_KP02","ČSN EN ISO 3274","ČSN EN ISO 12179"],"lab_section":null,"lab_section_en":null,"lab_section_zh":null,"lab_section_cs":null,"lab_address":null,"regulatory_area":"CMC dla dziedziny wielkości mierzonej: długość","regulatory_area_en":"CMC for the field of measured quantity: Length","regulatory_area_zh":"被测量领域的CMC：长度","regulatory_area_cs":"CMC pro obor měřené veličiny: Délka","flexible":false,"flexibility":null,"outside_premises":true,"note":null,"note_en":null,"note_zh":null,"note_cs":null,"search_text":"Przyrządy do pomiaru profilu powierzchni Wzorcowanie – długość Pomiar za pomocą płytek wzorcowych oś Z od 0 mm do 60 mm CMC (0,3L + 0,2 µm Přístroje na měření profilu povrchu Kalibrace – délka Měření pomocí koncových měrek osa Z 0 mm až 60 mm CMC (0,3L + 0,2 µm MCZ-PI-KL_SD15_KP02 (ČSN EN ISO 3274, ČSN EN ISO 12179) Przyrzady do pomiaru profilu powierzchni Wzorcowanie – dlugosc Pomiar za pomoca plytek wzorcowych os Z od 0 mm do 60 mm CMC (0,3L + 0,2 µm Pristroje na mereni profilu povrchu Kalibrace – delka Mereni pomoci koncovych merek osa Z 0 mm az 60 mm CMC (0,3L + 0,2 µm MCZ-PI-KL_SD15_KP02 (CSN EN ISO 3274, CSN EN ISO 12179)","search_en":"Surface profile measuring instruments Calibration – length Measurement using parallel gauge blocks Z-axis 0 mm to 60 mm CMC (0,3L + 0,2 µm MCZ-PI-KL_SD15_KP02 (ČSN EN ISO 3274, ČSN EN ISO 12179)","search_zh":"表面轮廓测量仪 校准 – 长度 使用量块测量 Z 轴 0 mm 至 60 mm CMC (0,3L + 0,2 µm MCZ-PI-KL_SD15_KP02 (ČSN EN ISO 3274, ČSN EN ISO 12179)","categories":["metrology"],"categories_source":"reczne","source_lang":"cs","translation":{"pl":"reczna-analiza-labcoda-3","en":"CIA-oficjalne","zh":"reczna-analiza-labcoda-3"},"row_index":8,"parse_version":5,"parse_source":"reczna-analiza-labcoda-3"},{"_id":"7c72f5741167ecc06a697f4c","lab_id":"6ade8b47ff06824761708133","country":"CZ","accr_number":"2390","accr_body":"ČIA","row_label":"4","test_object":"Przyrządy do pomiaru profilu powierzchni","test_object_en":"Surface profile measuring instruments","test_object_zh":"表面轮廓测量仪","test_object_cs":"Přístroje na měření profilu povrchu","methodology":"Wzorcowanie – długość","methodology_en":"Calibration – length","methodology_zh":"校准 – 长度","methodology_cs":"Kalibrace – délka","parameters":[{"name":"Błąd przy pomiarze prostoliniowości","range":"od -15 µm do 15 µm","cmc":"0,06 µm"}],"parameters_en":[{"name":"Straightness measurement error","range":"-15 µm to 15 µm","cmc":"0,06 µm"}],"parameters_zh":[{"name":"直线度测量误差","range":"-15 µm 至 15 µm","cmc":"0,06 µm"}],"parameters_cs":[{"name":"Chyba při měření přímosti","range":"-15 µm až 15 µm","cmc":"0,06 µm"}],"technique":"Pomiar wzorcem płaszczyzny optycznej","technique_en":"Measurement with an optical plane standard","technique_zh":"用光学平面标准测量","technique_cs":"Měření etalonem optické roviny","techniques":["Pomiar wzorcem płaszczyzny optycznej"],"techniques_en":["Measurement with an optical plane standard"],"techniques_zh":["用光学平面标准测量"],"techniques_cs":["Měření etalonem optické roviny"],"computed":[],"computed_en":[],"computed_zh":[],"computed_cs":[],"activity":"Wzorcowanie – długość\nBłąd przy pomiarze prostoliniowości od -15 µm do 15 µm CMC 0,06 µm\nPomiar wzorcem płaszczyzny optycznej","reference":"MCZ-PI-KL_SD15_KP02 (ČSN EN ISO 3274, ČSN EN ISO 12179)","norm_bases":["MCZ-PI-KL_SD15_KP02","ČSN EN ISO 3274","ČSN EN ISO 12179"],"lab_section":null,"lab_section_en":null,"lab_section_zh":null,"lab_section_cs":null,"lab_address":null,"regulatory_area":"CMC dla dziedziny wielkości mierzonej: długość","regulatory_area_en":"CMC for the field of measured quantity: Length","regulatory_area_zh":"被测量领域的CMC：长度","regulatory_area_cs":"CMC pro obor měřené veličiny: Délka","flexible":false,"flexibility":null,"outside_premises":true,"note":null,"note_en":null,"note_zh":null,"note_cs":null,"search_text":"Przyrządy do pomiaru profilu powierzchni Wzorcowanie – długość Pomiar wzorcem płaszczyzny optycznej Błąd przy pomiarze prostoliniowości od -15 µm do 15 µm CMC 0,06 µm Přístroje na měření profilu povrchu Kalibrace – délka Měření etalonem optické roviny Chyba při měření přímosti -15 µm až 15 µm CMC 0,06 µm MCZ-PI-KL_SD15_KP02 (ČSN EN ISO 3274, ČSN EN ISO 12179) Przyrzady do pomiaru profilu powierzchni Wzorcowanie – dlugosc Pomiar wzorcem plaszczyzny optycznej Blad przy pomiarze prostoliniowosci od -15 µm do 15 µm CMC 0,06 µm Pristroje na mereni profilu povrchu Kalibrace – delka Mereni etalonem opticke roviny Chyba pri mereni primosti -15 µm az 15 µm CMC 0,06 µm MCZ-PI-KL_SD15_KP02 (CSN EN ISO 3274, CSN EN ISO 12179)","search_en":"Surface profile measuring instruments Calibration – length Measurement with an optical plane standard Straightness measurement error -15 µm to 15 µm CMC 0,06 µm MCZ-PI-KL_SD15_KP02 (ČSN EN ISO 3274, ČSN EN ISO 12179)","search_zh":"表面轮廓测量仪 校准 – 长度 用光学平面标准测量 直线度测量误差 -15 µm 至 15 µm CMC 0,06 µm MCZ-PI-KL_SD15_KP02 (ČSN EN ISO 3274, ČSN EN ISO 12179)","categories":["metrology"],"categories_source":"reczne","source_lang":"cs","translation":{"pl":"reczna-analiza-labcoda-3","en":"CIA-oficjalne","zh":"reczna-analiza-labcoda-3"},"row_index":9,"parse_version":5,"parse_source":"reczna-analiza-labcoda-3"},{"_id":"d37fe4cc900bf5e6354f772d","lab_id":"6ade8b47ff06824761708133","country":"CZ","accr_number":"2390","accr_body":"ČIA","row_label":"5","test_object":"Projektory profilowe","test_object_en":"Profile projectors","test_object_zh":"轮廓投影仪","test_object_cs":"Profil projektory","methodology":"Wzorcowanie – długość","methodology_en":"Calibration – length","methodology_zh":"校准 – 长度","methodology_cs":"Kalibrace – délka","parameters":[{"name":"","range":"od 0 mm do 200 mm","cmc":"(8,9L + 1,2) µm"},{"name":"Równoległość PXY","range":"od -200 µm do 200 µm","cmc":"1 µm"},{"name":"Położenie krzyża nitkowego ECH","range":"od -200 µm do 200 µm","cmc":"4 µm"},{"name":"Błąd powiększenia","range":"od -1 % do 1 %","cmc":"0,01 % (abs.)"}],"parameters_en":[{"name":"","range":"0 mm to 200 mm","cmc":"(8,9L + 1,2) µm"},{"name":"Parallelity PXY","range":"-200 µm to 200 µm","cmc":"1 µm"},{"name":"Cross hair position ECH","range":"-200 µm to 200 µm","cmc":"4 µm"},{"name":"Magnification error","range":"-1 % to 1 %","cmc":"0,01 % (abs.)"}],"parameters_zh":[{"name":"","range":"0 mm 至 200 mm","cmc":"(8,9L + 1,2) µm"},{"name":"平行度 PXY","range":"-200 µm 至 200 µm","cmc":"1 µm"},{"name":"十字线位置 ECH","range":"-200 µm 至 200 µm","cmc":"4 µm"},{"name":"放大倍率误差","range":"-1 % 至 1 %","cmc":"0,01 % (abs.)"}],"parameters_cs":[{"name":"","range":"0 mm až 200 mm","cmc":"(8,9L + 1,2) µm"},{"name":"Rovnoběžnost PXY","range":"-200 µm až 200 µm","cmc":"1 µm"},{"name":"Pozice nitkového kříže ECH","range":"-200 µm až 200 µm","cmc":"4 µm"},{"name":"Chyba zvětšení","range":"-1 % až 1 %","cmc":"0,01 % (abs.)"}],"technique":"Pomiar za pomocą liniału szklanego","technique_en":"Measurement with a glass gauge","technique_zh":"使用玻璃尺测量","technique_cs":"Měření pomocí skleněného měřítka","techniques":["Pomiar za pomocą liniału szklanego"],"techniques_en":["Measurement with a glass gauge"],"techniques_zh":["使用玻璃尺测量"],"techniques_cs":["Měření pomocí skleněného měřítka"],"computed":[],"computed_en":[],"computed_zh":[],"computed_cs":[],"activity":"Wzorcowanie – długość\nZakres:\nod 0 mm do 200 mm CMC (8,9L + 1,2) µm\nRównoległość PXY od -200 µm do 200 µm CMC 1 µm\nPołożenie krzyża nitkowego ECH od -200 µm do 200 µm CMC 4 µm\nBłąd powiększenia od -1 % do 1 % CMC 0,01 % (abs.)\nPomiar za pomocą liniału szklanego","reference":"MCZ-PI-KL_SD15_KP03","norm_bases":["MCZ-PI-KL_SD15_KP03"],"lab_section":null,"lab_section_en":null,"lab_section_zh":null,"lab_section_cs":null,"lab_address":null,"regulatory_area":"CMC dla dziedziny wielkości mierzonej: długość","regulatory_area_en":"CMC for the field of measured quantity: Length","regulatory_area_zh":"被测量领域的CMC：长度","regulatory_area_cs":"CMC pro obor měřené veličiny: Délka","flexible":false,"flexibility":null,"outside_premises":true,"note":null,"note_en":null,"note_zh":null,"note_cs":null,"search_text":"Projektory profilowe Wzorcowanie – długość Pomiar za pomocą liniału szklanego od 0 mm do 200 mm CMC (8,9L + 1,2) µm Równoległość PXY od -200 µm do 200 µm CMC 1 µm Położenie krzyża nitkowego ECH od -200 µm do 200 µm CMC 4 µm Błąd powiększenia od -1 % do 1 % CMC 0,01 % (abs.) Profil projektory Kalibrace – délka Měření pomocí skleněného měřítka 0 mm až 200 mm CMC (8,9L + 1,2) µm Rovnoběžnost PXY -200 µm až 200 µm CMC 1 µm Pozice nitkového kříže ECH -200 µm až 200 µm CMC 4 µm Chyba zvětšení -1 % až 1 % CMC 0,01 % (abs.) MCZ-PI-KL_SD15_KP03 Projektory profilowe Wzorcowanie – dlugosc Pomiar za pomoca linialu szklanego od 0 mm do 200 mm CMC (8,9L + 1,2) µm Rownoleglosc PXY od -200 µm do 200 µm CMC 1 µm Polozenie krzyza nitkowego ECH od -200 µm do 200 µm CMC 4 µm Blad powiekszenia od -1 % do 1 % CMC 0,01 % (abs.) Profil projektory Kalibrace – delka Mereni pomoci skleneneho meritka 0 mm az 200 mm CMC (8,9L + 1,2) µm Rovnobeznost PXY -200 µm az 200 µm CMC 1 µm Pozice nitkoveho krize ECH -200 µm az 200 µm CMC 4 µm Chyba zvetseni -1 % az 1 % CMC 0,01 % (abs.) MCZ-PI-KL_SD15_KP03","search_en":"Profile projectors Calibration – length Measurement with a glass gauge 0 mm to 200 mm CMC (8,9L + 1,2) µm Parallelity PXY -200 µm to 200 µm CMC 1 µm Cross hair position ECH -200 µm to 200 µm CMC 4 µm Magnification error -1 % to 1 % CMC 0,01 % (abs.) MCZ-PI-KL_SD15_KP03","search_zh":"轮廓投影仪 校准 – 长度 使用玻璃尺测量 0 mm 至 200 mm CMC (8,9L + 1,2) µm 平行度 PXY -200 µm 至 200 µm CMC 1 µm 十字线位置 ECH -200 µm 至 200 µm CMC 4 µm 放大倍率误差 -1 % 至 1 % CMC 0,01 % (abs.) MCZ-PI-KL_SD15_KP03","categories":["metrology"],"categories_source":"reczne","source_lang":"cs","translation":{"pl":"reczna-analiza-labcoda-3","en":"CIA-oficjalne","zh":"reczna-analiza-labcoda-3"},"row_index":10,"parse_version":5,"parse_source":"reczna-analiza-labcoda-3"},{"_id":"d832ff84563253c8a87333d1","lab_id":"6ade8b47ff06824761708133","country":"CZ","accr_number":"2390","accr_body":"ČIA","row_label":"5","test_object":"Mikroskopy pomiarowe","test_object_en":"Measuring microscopes","test_object_zh":"测量显微镜","test_object_cs":"Měřicí mikroskopy","methodology":"Wzorcowanie – długość","methodology_en":"Calibration – length","methodology_zh":"校准 – 长度","methodology_cs":"Kalibrace – délka","parameters":[{"name":"","range":"od 0 mm do 400 mm","cmc":"(8,9L + 1,2) µm"},{"name":"Równoległość PXY","range":"od -200 µm do 200 µm","cmc":"1 µm"}],"parameters_en":[{"name":"","range":"0 mm to 400 mm","cmc":"(8,9L + 1,2) µm"},{"name":"Parallelity PXY","range":"-200 µm to 200 µm","cmc":"1 µm"}],"parameters_zh":[{"name":"","range":"0 mm 至 400 mm","cmc":"(8,9L + 1,2) µm"},{"name":"平行度 PXY","range":"-200 µm 至 200 µm","cmc":"1 µm"}],"parameters_cs":[{"name":"","range":"0 mm až 400 mm","cmc":"(8,9L + 1,2) µm"},{"name":"Rovnoběžnost PXY","range":"-200 µm až 200 µm","cmc":"1 µm"}],"technique":"Pomiar za pomocą liniału szklanego","technique_en":"Measurement with a glass gauge","technique_zh":"使用玻璃尺测量","technique_cs":"Měření pomocí skleněného měřítka","techniques":["Pomiar za pomocą liniału szklanego"],"techniques_en":["Measurement with a glass gauge"],"techniques_zh":["使用玻璃尺测量"],"techniques_cs":["Měření pomocí skleněného měřítka"],"computed":[],"computed_en":[],"computed_zh":[],"computed_cs":[],"activity":"Wzorcowanie – długość\nZakres:\nod 0 mm do 400 mm CMC (8,9L + 1,2) µm\nRównoległość PXY od -200 µm do 200 µm CMC 1 µm\nPomiar za pomocą liniału szklanego","reference":"MCZ-PI-KL_SD15_KP03","norm_bases":["MCZ-PI-KL_SD15_KP03"],"lab_section":null,"lab_section_en":null,"lab_section_zh":null,"lab_section_cs":null,"lab_address":null,"regulatory_area":"CMC dla dziedziny wielkości mierzonej: długość","regulatory_area_en":"CMC for the field of measured quantity: Length","regulatory_area_zh":"被测量领域的CMC：长度","regulatory_area_cs":"CMC pro obor měřené veličiny: Délka","flexible":false,"flexibility":null,"outside_premises":true,"note":null,"note_en":null,"note_zh":null,"note_cs":null,"search_text":"Mikroskopy pomiarowe Wzorcowanie – długość Pomiar za pomocą liniału szklanego od 0 mm do 400 mm CMC (8,9L + 1,2) µm Równoległość PXY od -200 µm do 200 µm CMC 1 µm Měřicí mikroskopy Kalibrace – délka Měření pomocí skleněného měřítka 0 mm až 400 mm CMC (8,9L + 1,2) µm Rovnoběžnost PXY -200 µm až 200 µm CMC 1 µm MCZ-PI-KL_SD15_KP03 Mikroskopy pomiarowe Wzorcowanie – dlugosc Pomiar za pomoca linialu szklanego od 0 mm do 400 mm CMC (8,9L + 1,2) µm Rownoleglosc PXY od -200 µm do 200 µm CMC 1 µm Merici mikroskopy Kalibrace – delka Mereni pomoci skleneneho meritka 0 mm az 400 mm CMC (8,9L + 1,2) µm Rovnobeznost PXY -200 µm az 200 µm CMC 1 µm MCZ-PI-KL_SD15_KP03","search_en":"Measuring microscopes Calibration – length Measurement with a glass gauge 0 mm to 400 mm CMC (8,9L + 1,2) µm Parallelity PXY -200 µm to 200 µm CMC 1 µm MCZ-PI-KL_SD15_KP03","search_zh":"测量显微镜 校准 – 长度 使用玻璃尺测量 0 mm 至 400 mm CMC (8,9L + 1,2) µm 平行度 PXY -200 µm 至 200 µm CMC 1 µm MCZ-PI-KL_SD15_KP03","categories":["metrology"],"categories_source":"reczne","source_lang":"cs","translation":{"pl":"reczna-analiza-labcoda-3","en":"CIA-oficjalne","zh":"reczna-analiza-labcoda-3"},"row_index":11,"parse_version":5,"parse_source":"reczna-analiza-labcoda-3"},{"_id":"d914e416fc57ad041000d97b","lab_id":"6ade8b47ff06824761708133","country":"CZ","accr_number":"2390","accr_body":"ČIA","row_label":"6","test_object":"Przyrządy pomiarowe 1D (wysokościomierze)","test_object_en":"1D measuring instruments (height gauges)","test_object_zh":"一维测量仪器（高度尺）","test_object_cs":"1D měřicí přístroje (výškoměry)","methodology":"Wzorcowanie – długość","methodology_en":"Calibration – length","methodology_zh":"校准 – 长度","methodology_cs":"Kalibrace – délka","parameters":[{"name":"","range":"od 0 m do 1 m","cmc":"(0,23L + 0,05) µm"}],"parameters_en":[{"name":"","range":"0 m to 1 m","cmc":"(0,23L + 0,05) µm"}],"parameters_zh":[{"name":"","range":"0 m 至 1 m","cmc":"(0,23L + 0,05) µm"}],"parameters_cs":[{"name":"","range":"0 m až 1 m","cmc":"(0,23L + 0,05) µm"}],"technique":"Pomiar interferometrem laserowym","technique_en":"Measurement by a laser interferometer","technique_zh":"用激光干涉仪测量","technique_cs":"Měření laserovým interferometrem","techniques":["Pomiar interferometrem laserowym"],"techniques_en":["Measurement by a laser interferometer"],"techniques_zh":["用激光干涉仪测量"],"techniques_cs":["Měření laserovým interferometrem"],"computed":[],"computed_en":[],"computed_zh":[],"computed_cs":[],"activity":"Wzorcowanie – długość\nod 0 m do 1 m CMC (0,23L + 0,05) µm\nPomiar interferometrem laserowym","reference":"MCZ-PI-KL_SD15_KP04","norm_bases":["MCZ-PI-KL_SD15_KP04"],"lab_section":null,"lab_section_en":null,"lab_section_zh":null,"lab_section_cs":null,"lab_address":null,"regulatory_area":"CMC dla dziedziny wielkości mierzonej: długość","regulatory_area_en":"CMC for the field of measured quantity: Length","regulatory_area_zh":"被测量领域的CMC：长度","regulatory_area_cs":"CMC pro obor měřené veličiny: Délka","flexible":false,"flexibility":null,"outside_premises":true,"note":null,"note_en":null,"note_zh":null,"note_cs":null,"search_text":"Przyrządy pomiarowe 1D (wysokościomierze) Wzorcowanie – długość Pomiar interferometrem laserowym od 0 m do 1 m CMC (0,23L + 0,05) µm 1D měřicí přístroje (výškoměry) Kalibrace – délka Měření laserovým interferometrem 0 m až 1 m CMC (0,23L + 0,05) µm MCZ-PI-KL_SD15_KP04 Przyrzady pomiarowe 1D (wysokosciomierze) Wzorcowanie – dlugosc Pomiar interferometrem laserowym od 0 m do 1 m CMC (0,23L + 0,05) µm 1D merici pristroje (vyskomery) Kalibrace – delka Mereni laserovym interferometrem 0 m az 1 m CMC (0,23L + 0,05) µm MCZ-PI-KL_SD15_KP04","search_en":"1D measuring instruments (height gauges) Calibration – length Measurement by a laser interferometer 0 m to 1 m CMC (0,23L + 0,05) µm MCZ-PI-KL_SD15_KP04","search_zh":"一维测量仪器（高度尺） 校准 – 长度 用激光干涉仪测量 0 m 至 1 m CMC (0,23L + 0,05) µm MCZ-PI-KL_SD15_KP04","categories":["metrology"],"categories_source":"reczne","source_lang":"cs","translation":{"pl":"reczna-analiza-labcoda-3","en":"CIA-oficjalne","zh":"reczna-analiza-labcoda-3"},"row_index":12,"parse_version":5,"parse_source":"reczna-analiza-labcoda-3"},{"_id":"ae5b96915dccb8c158d04377","lab_id":"6ade8b47ff06824761708133","country":"CZ","accr_number":"2390","accr_body":"ČIA","row_label":"7","test_object":"Okrągłościomierze","test_object_en":"Roundness testers","test_object_zh":"圆度仪","test_object_cs":"Kruhoměry","methodology":"Wzorcowanie – długość","methodology_en":"Calibration – length","methodology_zh":"校准 – 长度","methodology_cs":"Kalibrace – délka","parameters":[{"name":"Błąd pomiaru liniowości czujnika","range":"od -400 µm do 400 µm","cmc":"4 µm"}],"parameters_en":[{"name":"Sensor linearity measurement error","range":"-400 µm to 400 µm","cmc":"4 µm"}],"parameters_zh":[{"name":"传感器线性测量误差","range":"-400 µm 至 400 µm","cmc":"4 µm"}],"parameters_cs":[{"name":"Chyba měření linearity snímače","range":"-400 µm až 400 µm","cmc":"4 µm"}],"technique":"Pomiar wzorcem liniowości UDT","technique_en":"Measurement with UDT linearity standard","technique_zh":"用 UDT 线性标准测量","technique_cs":"Měření etalonem linearity UDT","techniques":["Pomiar wzorcem liniowości UDT"],"techniques_en":["Measurement with UDT linearity standard"],"techniques_zh":["用 UDT 线性标准测量"],"techniques_cs":["Měření etalonem linearity UDT"],"computed":[],"computed_en":[],"computed_zh":[],"computed_cs":[],"activity":"Wzorcowanie – długość\nBłąd pomiaru liniowości czujnika od -400 µm do 400 µm CMC 4 µm\nPomiar wzorcem liniowości UDT","reference":"MCZ-PI-KL_SD15_KP05","norm_bases":["MCZ-PI-KL_SD15_KP05"],"lab_section":null,"lab_section_en":null,"lab_section_zh":null,"lab_section_cs":null,"lab_address":null,"regulatory_area":"CMC dla dziedziny wielkości mierzonej: długość","regulatory_area_en":"CMC for the field of measured quantity: Length","regulatory_area_zh":"被测量领域的CMC：长度","regulatory_area_cs":"CMC pro obor měřené veličiny: Délka","flexible":false,"flexibility":null,"outside_premises":true,"note":null,"note_en":null,"note_zh":null,"note_cs":null,"search_text":"Okrągłościomierze Wzorcowanie – długość Pomiar wzorcem liniowości UDT Błąd pomiaru liniowości czujnika od -400 µm do 400 µm CMC 4 µm Kruhoměry Kalibrace – délka Měření etalonem linearity UDT Chyba měření linearity snímače -400 µm až 400 µm CMC 4 µm MCZ-PI-KL_SD15_KP05 Okraglosciomierze Wzorcowanie – dlugosc Pomiar wzorcem liniowosci UDT Blad pomiaru liniowosci czujnika od -400 µm do 400 µm CMC 4 µm Kruhomery Kalibrace – delka Mereni etalonem linearity UDT Chyba mereni linearity snimace -400 µm az 400 µm CMC 4 µm MCZ-PI-KL_SD15_KP05","search_en":"Roundness testers Calibration – length Measurement with UDT linearity standard Sensor linearity measurement error -400 µm to 400 µm CMC 4 µm MCZ-PI-KL_SD15_KP05","search_zh":"圆度仪 校准 – 长度 用 UDT 线性标准测量 传感器线性测量误差 -400 µm 至 400 µm CMC 4 µm MCZ-PI-KL_SD15_KP05","categories":["metrology"],"categories_source":"reczne","source_lang":"cs","translation":{"pl":"reczna-analiza-labcoda-3","en":"CIA-oficjalne","zh":"reczna-analiza-labcoda-3"},"row_index":13,"parse_version":5,"parse_source":"reczna-analiza-labcoda-3"},{"_id":"d69ea7dc09ec144a448c3e92","lab_id":"6ade8b47ff06824761708133","country":"CZ","accr_number":"2390","accr_body":"ČIA","row_label":"7","test_object":"Okrągłościomierze","test_object_en":"Roundness testers","test_object_zh":"圆度仪","test_object_cs":"Kruhoměry","methodology":"Wzorcowanie – długość","methodology_en":"Calibration – length","methodology_zh":"校准 – 长度","methodology_cs":"Kalibrace – délka","parameters":[{"name":"Bicie osiowe wrzeciona","range":"od -200 µm do 200 µm","cmc":"0,02 µm"},{"name":"Bicie promieniowe wrzeciona","range":"od -200 µm do 200 µm","cmc":"0,04 µm"}],"parameters_en":[{"name":"Spindle axial runout","range":"-200 µm to 200 µm","cmc":"0,02 µm"},{"name":"Spindle radial runout","range":"-200 µm to 200 µm","cmc":"0,04 µm"}],"parameters_zh":[{"name":"主轴轴向跳动","range":"-200 µm 至 200 µm","cmc":"0,02 µm"},{"name":"主轴径向跳动","range":"-200 µm 至 200 µm","cmc":"0,04 µm"}],"parameters_cs":[{"name":"Axiální házení vřetena","range":"-200 µm až 200 µm","cmc":"0,02 µm"},{"name":"Radiální házení vřetena","range":"-200 µm až 200 µm","cmc":"0,04 µm"}],"technique":"Pomiar półkulą odniesienia","technique_en":"Measurement with reference hemisphere","technique_zh":"用参考半球测量","technique_cs":"Měření referenční polokoulí","techniques":["Pomiar półkulą odniesienia"],"techniques_en":["Measurement with reference hemisphere"],"techniques_zh":["用参考半球测量"],"techniques_cs":["Měření referenční polokoulí"],"computed":[],"computed_en":[],"computed_zh":[],"computed_cs":[],"activity":"Wzorcowanie – długość\nZakres:\nBicie osiowe wrzeciona od -200 µm do 200 µm CMC 0,02 µm\nBicie promieniowe wrzeciona od -200 µm do 200 µm CMC 0,04 µm\nPomiar półkulą odniesienia","reference":"MCZ-PI-KL_SD15_KP05","norm_bases":["MCZ-PI-KL_SD15_KP05"],"lab_section":null,"lab_section_en":null,"lab_section_zh":null,"lab_section_cs":null,"lab_address":null,"regulatory_area":"CMC dla dziedziny wielkości mierzonej: długość","regulatory_area_en":"CMC for the field of measured quantity: Length","regulatory_area_zh":"被测量领域的CMC：长度","regulatory_area_cs":"CMC pro obor měřené veličiny: Délka","flexible":false,"flexibility":null,"outside_premises":true,"note":null,"note_en":null,"note_zh":null,"note_cs":null,"search_text":"Okrągłościomierze Wzorcowanie – długość Pomiar półkulą odniesienia Bicie osiowe wrzeciona od -200 µm do 200 µm CMC 0,02 µm Bicie promieniowe wrzeciona od -200 µm do 200 µm CMC 0,04 µm Kruhoměry Kalibrace – délka Měření referenční polokoulí Axiální házení vřetena -200 µm až 200 µm CMC 0,02 µm Radiální házení vřetena -200 µm až 200 µm CMC 0,04 µm MCZ-PI-KL_SD15_KP05 Okraglosciomierze Wzorcowanie – dlugosc Pomiar polkula odniesienia Bicie osiowe wrzeciona od -200 µm do 200 µm CMC 0,02 µm Bicie promieniowe wrzeciona od -200 µm do 200 µm CMC 0,04 µm Kruhomery Kalibrace – delka Mereni referencni polokouli Axialni hazeni vretena -200 µm az 200 µm CMC 0,02 µm Radialni hazeni vretena -200 µm az 200 µm CMC 0,04 µm MCZ-PI-KL_SD15_KP05","search_en":"Roundness testers Calibration – length Measurement with reference hemisphere Spindle axial runout -200 µm to 200 µm CMC 0,02 µm Spindle radial runout -200 µm to 200 µm CMC 0,04 µm MCZ-PI-KL_SD15_KP05","search_zh":"圆度仪 校准 – 长度 用参考半球测量 主轴轴向跳动 -200 µm 至 200 µm CMC 0,02 µm 主轴径向跳动 -200 µm 至 200 µm CMC 0,04 µm MCZ-PI-KL_SD15_KP05","categories":["metrology"],"categories_source":"reczne","source_lang":"cs","translation":{"pl":"reczna-analiza-labcoda-3","en":"CIA-oficjalne","zh":"reczna-analiza-labcoda-3"},"row_index":14,"parse_version":5,"parse_source":"reczna-analiza-labcoda-3"},{"_id":"cd2d42add691bce7e39cb6fc","lab_id":"6ade8b47ff06824761708133","country":"CZ","accr_number":"2390","accr_body":"ČIA","row_label":"7","test_object":"Okrągłościomierze","test_object_en":"Roundness testers","test_object_zh":"圆度仪","test_object_cs":"Kruhoměry","methodology":"Wzorcowanie – długość","methodology_en":"Calibration – length","methodology_zh":"校准 – 长度","methodology_cs":"Kalibrace – délka","parameters":[{"name":"Walcowość","range":"od 0 µm do 200 µm","cmc":"1,8 µm"}],"parameters_en":[{"name":"Cylindricity","range":"0 µm to 200 µm","cmc":"1,8 µm"}],"parameters_zh":[{"name":"圆柱度","range":"0 µm 至 200 µm","cmc":"1,8 µm"}],"parameters_cs":[{"name":"Válcovitost","range":"0 µm až 200 µm","cmc":"1,8 µm"}],"technique":"Pomiar walcem odniesienia","technique_en":"Measurement with reference cylinder","technique_zh":"用参考圆柱测量","technique_cs":"Měření referenčním válcem","techniques":["Pomiar walcem odniesienia"],"techniques_en":["Measurement with reference cylinder"],"techniques_zh":["用参考圆柱测量"],"techniques_cs":["Měření referenčním válcem"],"computed":[],"computed_en":[],"computed_zh":[],"computed_cs":[],"activity":"Wzorcowanie – długość\nWalcowość od 0 µm do 200 µm CMC 1,8 µm\nPomiar walcem odniesienia","reference":"MCZ-PI-KL_SD15_KP05","norm_bases":["MCZ-PI-KL_SD15_KP05"],"lab_section":null,"lab_section_en":null,"lab_section_zh":null,"lab_section_cs":null,"lab_address":null,"regulatory_area":"CMC dla dziedziny wielkości mierzonej: długość","regulatory_area_en":"CMC for the field of measured quantity: Length","regulatory_area_zh":"被测量领域的CMC：长度","regulatory_area_cs":"CMC pro obor měřené veličiny: Délka","flexible":false,"flexibility":null,"outside_premises":true,"note":null,"note_en":null,"note_zh":null,"note_cs":null,"search_text":"Okrągłościomierze Wzorcowanie – długość Pomiar walcem odniesienia Walcowość od 0 µm do 200 µm CMC 1,8 µm Kruhoměry Kalibrace – délka Měření referenčním válcem Válcovitost 0 µm až 200 µm CMC 1,8 µm MCZ-PI-KL_SD15_KP05 Okraglosciomierze Wzorcowanie – dlugosc Pomiar walcem odniesienia Walcowosc od 0 µm do 200 µm CMC 1,8 µm Kruhomery Kalibrace – delka Mereni referencnim valcem Valcovitost 0 µm az 200 µm CMC 1,8 µm MCZ-PI-KL_SD15_KP05","search_en":"Roundness testers Calibration – length Measurement with reference cylinder Cylindricity 0 µm to 200 µm CMC 1,8 µm MCZ-PI-KL_SD15_KP05","search_zh":"圆度仪 校准 – 长度 用参考圆柱测量 圆柱度 0 µm 至 200 µm CMC 1,8 µm MCZ-PI-KL_SD15_KP05","categories":["metrology"],"categories_source":"reczne","source_lang":"cs","translation":{"pl":"reczna-analiza-labcoda-3","en":"CIA-oficjalne","zh":"reczna-analiza-labcoda-3"},"row_index":15,"parse_version":5,"parse_source":"reczna-analiza-labcoda-3"},{"_id":"98b16206d9489d8e94190802","lab_id":"6ade8b47ff06824761708133","country":"CZ","accr_number":"2390","accr_body":"ČIA","row_label":"1","test_object":"Błąd pomiaru kąta w płaszczyźnie XZ / Przyrządy do pomiaru profilu powierzchni","test_object_en":"Error of angle measurement in the XZ plane / Surface profile measuring instruments","test_object_zh":"XZ 平面角度测量误差 / 表面轮廓测量仪","test_object_cs":"Chyba měření úhlu v rovině XZ / Přístroje na měření profilu povrchu","methodology":"Wzorcowanie – kąt płaski","methodology_en":"Calibration – plane angle","methodology_zh":"校准 – 平面角","methodology_cs":"Kalibrace – rovinný úhel","parameters":[{"name":"","range":"135°","cmc":"0,0034°"}],"parameters_en":[{"name":"","range":"135°","cmc":"0,0034°"}],"parameters_zh":[{"name":"","range":"135°","cmc":"0,0034°"}],"parameters_cs":[{"name":"","range":"135°","cmc":"0,0034°"}],"technique":"Pomiar płytki kątowej 135°","technique_en":"Measurement of angle gauge 135°","technique_zh":"测量 135° 角度块","technique_cs":"Měření úhlové měrky 135°","techniques":["Pomiar płytki kątowej 135°"],"techniques_en":["Measurement of angle gauge 135°"],"techniques_zh":["测量 135° 角度块"],"techniques_cs":["Měření úhlové měrky 135°"],"computed":[],"computed_en":[],"computed_zh":[],"computed_cs":[],"activity":"Wzorcowanie – kąt płaski\n135° CMC 0,0034°\nPomiar płytki kątowej 135°","reference":"MCZ-PI-KL_SD15_KP02 (ČSN EN ISO 3274, ČSN EN ISO 12179)","norm_bases":["MCZ-PI-KL_SD15_KP02","ČSN EN ISO 3274","ČSN EN ISO 12179"],"lab_section":null,"lab_section_en":null,"lab_section_zh":null,"lab_section_cs":null,"lab_address":null,"regulatory_area":"CMC dla dziedziny wielkości mierzonej: kąt płaski","regulatory_area_en":"CMC for the field of measured quantity: Plane angle","regulatory_area_zh":"被测量领域的CMC：平面角","regulatory_area_cs":"CMC pro obor měřené veličiny: Rovinný úhel","flexible":false,"flexibility":null,"outside_premises":true,"note":null,"note_en":null,"note_zh":null,"note_cs":null,"search_text":"Błąd pomiaru kąta w płaszczyźnie XZ / Przyrządy do pomiaru profilu powierzchni Wzorcowanie – kąt płaski Pomiar płytki kątowej 135° 135° CMC 0,0034° Chyba měření úhlu v rovině XZ / Přístroje na měření profilu povrchu Kalibrace – rovinný úhel Měření úhlové měrky 135° 135° CMC 0,0034° MCZ-PI-KL_SD15_KP02 (ČSN EN ISO 3274, ČSN EN ISO 12179) Blad pomiaru kata w plaszczyznie XZ / Przyrzady do pomiaru profilu powierzchni Wzorcowanie – kat plaski Pomiar plytki katowej 135° 135° CMC 0,0034° Chyba mereni uhlu v rovine XZ / Pristroje na mereni profilu povrchu Kalibrace – rovinny uhel Mereni uhlove merky 135° 135° CMC 0,0034° MCZ-PI-KL_SD15_KP02 (CSN EN ISO 3274, CSN EN ISO 12179)","search_en":"Error of angle measurement in the XZ plane / Surface profile measuring instruments Calibration – plane angle Measurement of angle gauge 135° 135° CMC 0,0034° MCZ-PI-KL_SD15_KP02 (ČSN EN ISO 3274, ČSN EN ISO 12179)","search_zh":"XZ 平面角度测量误差 / 表面轮廓测量仪 校准 – 平面角 测量 135° 角度块 135° CMC 0,0034° MCZ-PI-KL_SD15_KP02 (ČSN EN ISO 3274, ČSN EN ISO 12179)","categories":["metrology"],"categories_source":"reczne","source_lang":"cs","translation":{"pl":"reczna-analiza-labcoda-3","en":"CIA-oficjalne","zh":"reczna-analiza-labcoda-3"},"row_index":16,"parse_version":5,"parse_source":"reczna-analiza-labcoda-3"},{"_id":"147de369ca3bc628758dc3d3","lab_id":"6ade8b47ff06824761708133","country":"CZ","accr_number":"2390","accr_body":"ČIA","row_label":"2","test_object":"Błąd pomiaru kąta / Projektory profilowe","test_object_en":"Angle measurement error / Profile projectors","test_object_zh":"角度测量误差 / 轮廓投影仪","test_object_cs":"Chyba měření úhlu / Profilprojektory","methodology":"Wzorcowanie – kąt płaski","methodology_en":"Calibration – plane angle","methodology_zh":"校准 – 平面角","methodology_cs":"Kalibrace – rovinný úhel","parameters":[{"name":"","range":"360°","cmc":"0,5´"}],"parameters_en":[{"name":"","range":"360°","cmc":"0,5´"}],"parameters_zh":[{"name":"","range":"360°","cmc":"0,5´"}],"parameters_cs":[{"name":"","range":"360°","cmc":"0,5´"}],"technique":"Pomiar położenia liniału szklanego przez obrót matówki o 360°","technique_en":"Measurement of glass gauge position by rotating the screen 360°","technique_zh":"通过将投影屏旋转 360° 测量玻璃尺位置","technique_cs":"Měření polohy skleněného měřítka otočením matnice o 360°","techniques":["Pomiar położenia liniału szklanego przez obrót matówki o 360°"],"techniques_en":["Measurement of glass gauge position by rotating the screen 360°"],"techniques_zh":["通过将投影屏旋转 360° 测量玻璃尺位置"],"techniques_cs":["Měření polohy skleněného měřítka otočením matnice o 360°"],"computed":[],"computed_en":[],"computed_zh":[],"computed_cs":[],"activity":"Wzorcowanie – kąt płaski\n360° CMC 0,5´\nPomiar położenia liniału szklanego przez obrót matówki o 360°","reference":"MCZ-PI-KL_SD15_KP03","norm_bases":["MCZ-PI-KL_SD15_KP03"],"lab_section":null,"lab_section_en":null,"lab_section_zh":null,"lab_section_cs":null,"lab_address":null,"regulatory_area":"CMC dla dziedziny wielkości mierzonej: kąt płaski","regulatory_area_en":"CMC for the field of measured quantity: Plane angle","regulatory_area_zh":"被测量领域的CMC：平面角","regulatory_area_cs":"CMC pro obor měřené veličiny: Rovinný úhel","flexible":false,"flexibility":null,"outside_premises":true,"note":null,"note_en":null,"note_zh":null,"note_cs":null,"search_text":"Błąd pomiaru kąta / Projektory profilowe Wzorcowanie – kąt płaski Pomiar położenia liniału szklanego przez obrót matówki o 360° 360° CMC 0,5´ Chyba měření úhlu / Profilprojektory Kalibrace – rovinný úhel Měření polohy skleněného měřítka otočením matnice o 360° 360° CMC 0,5´ MCZ-PI-KL_SD15_KP03 Blad pomiaru kata / Projektory profilowe Wzorcowanie – kat plaski Pomiar polozenia linialu szklanego przez obrot matowki o 360° 360° CMC 0,5´ Chyba mereni uhlu / Profilprojektory Kalibrace – rovinny uhel Mereni polohy skleneneho meritka otocenim matnice o 360° 360° CMC 0,5´ MCZ-PI-KL_SD15_KP03","search_en":"Angle measurement error / Profile projectors Calibration – plane angle Measurement of glass gauge position by rotating the screen 360° 360° CMC 0,5´ MCZ-PI-KL_SD15_KP03","search_zh":"角度测量误差 / 轮廓投影仪 校准 – 平面角 通过将投影屏旋转 360° 测量玻璃尺位置 360° CMC 0,5´ MCZ-PI-KL_SD15_KP03","categories":["metrology"],"categories_source":"reczne","source_lang":"cs","translation":{"pl":"reczna-analiza-labcoda-3","en":"CIA-oficjalne","zh":"reczna-analiza-labcoda-3"},"row_index":17,"parse_version":5,"parse_source":"reczna-analiza-labcoda-3"}],"has_pdf":true}