{"lab":{"_id":"69ad52a3de79e566650fb191","accr_number":"AB 274","country":"PL","accr_body":"PCA","address":"- INSTYTUT METALI NIEŻELAZNYCH, CENTRUM CHEMII ANALITYCZNEJ, ul. Sowińskiego 5, 44-100 Gliwice","categories":["materials","environment","electronics"],"city":"Gliwice","imported_at":"2026-03-08T10:42:43.265Z","methods_count":14,"name":"SIEĆ BADAWCZA ŁUKASIEWICZ","parse_status":"parsed","parse_version":3,"pdf_files":["AB_274.pdf"],"scope_summary":"","search_text":"sieć badawcza łukasiewicz - instytut metali nieżelaznych, centrum chemii analitycznej, ul. sowińskiego 5, 44-100 gliwice other pharma environment automotive materials electronics","status":"active","updated_at":"2026-03-08T14:51:07.240Z","valid_from":"","valid_until":"","website":"","parsed_at":"2026-08-13T08:05:10.284Z","location":{"type":"Point","coordinates":[18.6714,50.2945]},"email_confidence":"high","email_mx":true,"email_source":"https://www.pca.gov.pl/akredytowane-podmioty/akredytacje-aktywne/laboratoria-badawcze/AB%20274,podmiot.html","fields_of_testing":[{"codes":"C/6; C/8; C/9; C/21; C/36","pl":"Badania chemiczne wyrobów i wyposażenia elektrycznego, wyrobów i materiałów konstrukcyjnych, gazów, powietrza, wyrobów z tworzyw sztucznych i gumy,","en":"Chemical tests of electrical products and equipment, construction products and materials, gases, air, plastic and rubber products,;"}],"issue":{"no":"25","date":"22.07.2026"},"parse_date":"2026-08-13T08:05:10.284Z","parse_source":"agent-claude-code","map_coord":[50.295789,18.633954],"map_geo":"nominatim-street","scope_format":"PCA::pracownie+siatka5","source_pdf_url":"https://bip.pca.gov.pl/storage/file/e-accreditations/2026/8/13/e78d6b8eaa92135aa2d16cc1ef33fda8/AB%20274.pdf","has_en":true,"category_counts":{"materials":7,"environment":4,"other":3,"electronics":2},"category_scores":{"materials":3.06,"environment":1,"other":0.56,"electronics":0.25},"has_zh":true},"methods":[{"_id":"6a7d7ab60636ba417e41b885","lab_id":"69ad52a3de79e566650fb191","country":"PL","accr_number":"AB 274","accr_body":"PCA","test_object":"Koncentraty miedziowe","methodology":"Zawartość Cu","parameters":[{"name":"Zakres","range":"(7,00 - 45,00) %"}],"technique":"Metoda miareczkowa","techniques":["Metoda miareczkowa"],"computed":[],"activity":"Zawartość Cu\nZakres (7,00 - 45,00) %\nMetoda miareczkowa","reference":"PB-01/ML wyd. 3 z dn. 16.05.2022 r.","norm_bases":["PB-01/ML wyd. 3 z dn. 16.05.2022 r."],"lab_section":null,"lab_address":null,"regulatory_area":null,"flexible":false,"search_text":"Koncentraty miedziowe Zawartość Cu\nZakres (7,00 - 45,00) %\nMetoda miareczkowa PB-01/ML wyd. 3 z dn. 16.05.2022 r. Koncentraty miedziowe Zawartosc Cu\nZakres (7,00 - 45,00) %\nMetoda miareczkowa PB-01/ML wyd. 3 z dn. 16.05.2022 r.","categories":["other"],"row_index":0,"parse_version":4,"parse_source":"agent-claude-code","methodology_en":"Cu content","parameters_en":[{"name":"Range","range":"(7,00 - 45,00) %"}],"search_en":"Copper concentrates Cu content Titrimetric method Range PB-01/ML wyd. 3 z dn. 16.05.2022 r.","technique_en":"Titrimetric method","test_object_en":"Copper concentrates","parameters_zh":[{"name":"范围","range":"(7,00 - 45,00) %"}],"search_zh":"Cu 含量 滴定法 范围 PB-01/ML wyd. 3 z dn. 16.05.2022 r.","technique_zh":"滴定法","methodology_zh":"Cu 含量"},{"_id":"6a7d7ab60636ba417e41b886","lab_id":"69ad52a3de79e566650fb191","country":"PL","accr_number":"AB 274","accr_body":"PCA","test_object":"Miedź i stopy miedzi","methodology":"Zawartość Cu","parameters":[{"name":"Zakres","range":"(60,00 – 99,90) %"}],"technique":"Metoda elektrograwimetryczna i płomieniowa absorpcyjna spektrometria atomowa (FAAS)","techniques":["Metoda elektrograwimetryczna i płomieniowa absorpcyjna spektrometria atomowa (FAAS)"],"computed":[],"activity":"Zawartość Cu\nZakres (60,00 – 99,90) %\nMetoda elektrograwimetryczna i płomieniowa absorpcyjna spektrometria atomowa (FAAS)","reference":"PB-10/ML wyd. 1 z dnia 16.08.2021 r.","norm_bases":["PB-10/ML wyd. 1 z dnia 16.08.2021 r."],"lab_section":null,"lab_address":null,"regulatory_area":null,"flexible":false,"search_text":"Miedź i stopy miedzi Zawartość Cu\nZakres (60,00 – 99,90) %\nMetoda elektrograwimetryczna i płomieniowa absorpcyjna spektrometria atomowa (FAAS) PB-10/ML wyd. 1 z dnia 16.08.2021 r. Miedz i stopy miedzi Zawartosc Cu\nZakres (60,00 – 99,90) %\nMetoda elektrograwimetryczna i plomieniowa absorpcyjna spektrometria atomowa (FAAS) PB-10/ML wyd. 1 z dnia 16.08.2021 r.","categories":["materials"],"row_index":1,"parse_version":4,"parse_source":"agent-claude-code","methodology_en":"Cu content","parameters_en":[{"name":"Range","range":"(60,00 – 99,90) %"}],"search_en":"Copper and copper alloys Cu content Electrogravimetric method and flame atomic absorption spectrometry (FAAS) Range PB-10/ML wyd. 1 z dnia 16.08.2021 r.","technique_en":"Electrogravimetric method and flame atomic absorption spectrometry (FAAS)","test_object_en":"Copper and copper alloys","parameters_zh":[{"name":"范围","range":"(60,00 – 99,90) %"}],"search_zh":"Cu 含量 范围 PB-10/ML wyd. 1 z dnia 16.08.2021 r.","methodology_zh":"Cu 含量"},{"_id":"6a7d7ab60636ba417e41b887","lab_id":"69ad52a3de79e566650fb191","country":"PL","accr_number":"AB 274","accr_body":"PCA","test_object":"Rudy miedziowe i materiały geologiczne (piaskowce, dolomity i łupki miedzionośne)","methodology":"Zawartość Cu","parameters":[{"name":"Zakres","range":"(0,30 - 9,00) %"}],"technique":"Metoda miareczkowa","techniques":["Metoda miareczkowa"],"computed":[],"activity":"Zawartość Cu\nZakres (0,30 - 9,00) %\nMetoda miareczkowa","reference":"PB-02/ML wyd. 2 z dn. 16.05.2022 r.","norm_bases":["PB-02/ML wyd. 2 z dn. 16.05.2022 r."],"lab_section":null,"lab_address":null,"regulatory_area":null,"flexible":false,"search_text":"Rudy miedziowe i materiały geologiczne (piaskowce, dolomity i łupki miedzionośne) Zawartość Cu\nZakres (0,30 - 9,00) %\nMetoda miareczkowa PB-02/ML wyd. 2 z dn. 16.05.2022 r. Rudy miedziowe i materialy geologiczne (piaskowce, dolomity i lupki miedzionosne) Zawartosc Cu\nZakres (0,30 - 9,00) %\nMetoda miareczkowa PB-02/ML wyd. 2 z dn. 16.05.2022 r.","categories":["materials"],"row_index":2,"parse_version":4,"parse_source":"agent-claude-code","methodology_en":"Cu content","parameters_en":[{"name":"Range","range":"(0,30 - 9,00) %"}],"search_en":"Copper ores and geological materials (copper-bearing sandstones, dolomites and shales) Cu content Titrimetric method Range PB-02/ML wyd. 2 z dn. 16.05.2022 r.","technique_en":"Titrimetric method","test_object_en":"Copper ores and geological materials (copper-bearing sandstones, dolomites and shales)","parameters_zh":[{"name":"范围","range":"(0,30 - 9,00) %"}],"search_zh":"Cu 含量 滴定法 范围 PB-02/ML wyd. 2 z dn. 16.05.2022 r.","technique_zh":"滴定法","methodology_zh":"Cu 含量"},{"_id":"6a7d7ab60636ba417e41b888","lab_id":"69ad52a3de79e566650fb191","country":"PL","accr_number":"AB 274","accr_body":"PCA","test_object":"Środowisko ogólne: - próbki gazów odlotowych pobrane na filtry","methodology":"Zawartość: As, Cd, Cr, Co, Cu, Mn, Ni, Pb, Sb, Tl, V, Zn","parameters":[{"name":"As (0,0001 - 1,00) mg w próbce Cd (0,0001 - 1,00) mg w próbce Cr (0,0002 - 1,00) mg w próbce Co (0,0001 - 1,00) mg w próbce Cu (0,001 - 1,00) mg w próbce Mn (0,0001 - 1,00) mg w próbce Ni (0,001 - 1,00) mg w próbce Pb (0,0002 - 1,00) mg w próbce Sb (0,0001 - 1,00) mg w próbce Tl (0,0001 - 1,00) mg w próbce V (0,0002 - 1,00) mg w próbce Zn (0,001 - 1,00) mg w próbce"}],"technique":"Metoda spektrometrii mas z jonizacją w plazmie indukcyjnie sprzężonej (ICP-MS)","techniques":["Metoda spektrometrii mas z jonizacją w plazmie indukcyjnie sprzężonej (ICP-MS)"],"computed":[],"activity":"Zawartość: As, Cd, Cr, Co, Cu, Mn, Ni, Pb, Sb, Tl, V, Zn\nAs (0,0001 - 1,00) mg w próbce Cd (0,0001 - 1,00) mg w próbce Cr (0,0002 - 1,00) mg w próbce Co (0,0001 - 1,00) mg w próbce Cu (0,001 - 1,00) mg w próbce Mn (0,0001 - 1,00) mg w próbce Ni (0,001 - 1,00) mg w próbce Pb (0,0002 - 1,00) mg w próbce Sb (0,0001 - 1,00) mg w próbce Tl (0,0001 - 1,00) mg w próbce V (0,0002 - 1,00) mg w próbce Zn (0,001 - 1,00) mg w próbce\nMetoda spektrometrii mas z jonizacją w plazmie indukcyjnie sprzężonej (ICP-MS)","reference":"PN-EN 14385:2005","norm_bases":["PN-EN 14385:2005"],"lab_section":null,"lab_address":null,"regulatory_area":null,"flexible":false,"search_text":"Środowisko ogólne: - próbki gazów odlotowych pobrane na filtry Zawartość: As, Cd, Cr, Co, Cu, Mn, Ni, Pb, Sb, Tl, V, Zn\nAs (0,0001 - 1,00) mg w próbce Cd (0,0001 - 1,00) mg w próbce Cr (0,0002 - 1,00) mg w próbce Co (0,0001 - 1,00) mg w próbce Cu (0,001 - 1,00) mg w próbce Mn (0,0001 - 1,00) mg w próbce Ni (0,001 - 1,00) mg w próbce Pb (0,0002 - 1,00) mg w próbce Sb (0,0001 - 1,00) mg w próbce Tl (0,0001 - 1,00) mg w próbce V (0,0002 - 1,00) mg w próbce Zn (0,001 - 1,00) mg w próbce\nMetoda spektrometrii mas z jonizacją w plazmie indukcyjnie sprzężonej (ICP-MS) PN-EN 14385:2005 Srodowisko ogolne: - probki gazow odlotowych pobrane na filtry Zawartosc: As, Cd, Cr, Co, Cu, Mn, Ni, Pb, Sb, Tl, V, Zn\nAs (0,0001 - 1,00) mg w probce Cd (0,0001 - 1,00) mg w probce Cr (0,0002 - 1,00) mg w probce Co (0,0001 - 1,00) mg w probce Cu (0,001 - 1,00) mg w probce Mn (0,0001 - 1,00) mg w probce Ni (0,001 - 1,00) mg w probce Pb (0,0002 - 1,00) mg w probce Sb (0,0001 - 1,00) mg w probce Tl (0,0001 - 1,00) mg w probce V (0,0002 - 1,00) mg w probce Zn (0,001 - 1,00) mg w probce\nMetoda spektrometrii mas z jonizacja w plazmie indukcyjnie sprzezonej (ICP-MS) PN-EN 14385:2005","categories":["environment"],"row_index":3,"parse_version":4,"parse_source":"agent-claude-code","methodology_en":"Content of: As, Cd, Cr, Co, Cu, Mn, Ni, Pb, Sb, Tl, V, Zn","parameters_en":[{"name":"As (0,0001 - 1,00) mg in the sample Cd (0,0001 - 1,00) mg in the sample Cr (0,0002 - 1,00) mg in the sample Co (0,0001 - 1,00) mg in the sample Cu (0,001 - 1,00) mg in the sample Mn (0,0001 - 1,00) mg in the sample Ni (0,001 - 1,00) mg in the sample Pb (0,0002 - 1,00) mg in the sample Sb (0,0001 - 1,00) mg in the sample Tl (0,0001 - 1,00) mg in the sample V (0,0002 - 1,00) mg in the sample Zn (0,001 - 1,00) mg in the sample"}],"search_en":"General environment: - waste gas samples collected on filters Content of: As, Cd, Cr, Co, Cu, Mn, Ni, Pb, Sb, Tl, V, Zn Inductively coupled plasma mass spectrometry (ICP-MS) As (0,0001 - 1,00) mg in the sample Cd (0,0001 - 1,00) mg in the sample Cr (0,0002 - 1,00) mg in the sample Co (0,0001 - 1,00) mg in the sample Cu (0,001 - 1,00) mg in the sample Mn (0,0001 - 1,00) mg in the sample Ni (0,001 - 1,00) mg in the sample Pb (0,0002 - 1,00) mg in the sample Sb (0,0001 - 1,00) mg in the sample Tl (0,0001 - 1,00) mg in the sample V (0,0002 - 1,00) mg in the sample Zn (0,001 - 1,00) mg in the sample PN-EN 14385:2005","technique_en":"Inductively coupled plasma mass spectrometry (ICP-MS)","test_object_en":"General environment: - waste gas samples collected on filters","search_zh":"电感耦合等离子体质谱法（ICP-MS） PN-EN 14385:2005","technique_zh":"电感耦合等离子体质谱法（ICP-MS）"},{"_id":"6a7d7ab60636ba417e41b889","lab_id":"69ad52a3de79e566650fb191","country":"PL","accr_number":"AB 274","accr_body":"PCA","test_object":"Środowisko ogólne: - próbki gazów odlotowych pobrane do roztworu pochłaniającego","methodology":"Stężenie: As, Cd, Cr, Co, Cu, Mn, Ni, Pb, Sb, Tl, V, Zn","parameters":[{"name":"As","range":"(0,001 - 2,00) mg/l"},{"name":"Cd","range":"(0,0001 - 2,00) mg/l"},{"name":"Cr","range":"(0,002 - 2,00) mg/l"},{"name":"Co","range":"(0,001 - 2,00) mg/l"},{"name":"Cu","range":"(0,01 - 2,00) mg/l"},{"name":"Mn","range":"(0,001 - 2,00) mg/l"},{"name":"Ni","range":"(0,01 - 2,00) mg/l"},{"name":"Pb","range":"(0,002 - 2,00) mg/l"},{"name":"Sb","range":"(0,001 - 2,00) mg/l"},{"name":"Tl","range":"(0,0001 - 2,00) mg/l"},{"name":"V","range":"(0,002 - 2,00) mg/l"},{"name":"Zn","range":"(0,01 - 2,00) mg/l"}],"technique":"Metoda spektrometrii mas z jonizacją w plazmie indukcyjnie sprzężonej (ICP-MS)","techniques":["Metoda spektrometrii mas z jonizacją w plazmie indukcyjnie sprzężonej (ICP-MS)"],"computed":[],"activity":"Stężenie: As, Cd, Cr, Co, Cu, Mn, Ni, Pb, Sb, Tl, V, Zn\nZakres:\nAs (0,001 - 2,00) mg/l\nCd (0,0001 - 2,00) mg/l\nCr (0,002 - 2,00) mg/l\nCo (0,001 - 2,00) mg/l\nCu (0,01 - 2,00) mg/l\nMn (0,001 - 2,00) mg/l\nNi (0,01 - 2,00) mg/l\nPb (0,002 - 2,00) mg/l\nSb (0,001 - 2,00) mg/l\nTl (0,0001 - 2,00) mg/l\nV (0,002 - 2,00) mg/l\nZn (0,01 - 2,00) mg/l\nMetoda spektrometrii mas z jonizacją w plazmie indukcyjnie sprzężonej (ICP-MS)","reference":"PN-EN 14385:2005","norm_bases":["PN-EN 14385:2005"],"lab_section":null,"lab_address":null,"regulatory_area":null,"flexible":false,"search_text":"Środowisko ogólne: - próbki gazów odlotowych pobrane do roztworu pochłaniającego Stężenie: As, Cd, Cr, Co, Cu, Mn, Ni, Pb, Sb, Tl, V, Zn\nZakres:\nAs (0,001 - 2,00) mg/l\nCd (0,0001 - 2,00) mg/l\nCr (0,002 - 2,00) mg/l\nCo (0,001 - 2,00) mg/l\nCu (0,01 - 2,00) mg/l\nMn (0,001 - 2,00) mg/l\nNi (0,01 - 2,00) mg/l\nPb (0,002 - 2,00) mg/l\nSb (0,001 - 2,00) mg/l\nTl (0,0001 - 2,00) mg/l\nV (0,002 - 2,00) mg/l\nZn (0,01 - 2,00) mg/l\nMetoda spektrometrii mas z jonizacją w plazmie indukcyjnie sprzężonej (ICP-MS) PN-EN 14385:2005 Srodowisko ogolne: - probki gazow odlotowych pobrane do roztworu pochlaniajacego Stezenie: As, Cd, Cr, Co, Cu, Mn, Ni, Pb, Sb, Tl, V, Zn\nZakres:\nAs (0,001 - 2,00) mg/l\nCd (0,0001 - 2,00) mg/l\nCr (0,002 - 2,00) mg/l\nCo (0,001 - 2,00) mg/l\nCu (0,01 - 2,00) mg/l\nMn (0,001 - 2,00) mg/l\nNi (0,01 - 2,00) mg/l\nPb (0,002 - 2,00) mg/l\nSb (0,001 - 2,00) mg/l\nTl (0,0001 - 2,00) mg/l\nV (0,002 - 2,00) mg/l\nZn (0,01 - 2,00) mg/l\nMetoda spektrometrii mas z jonizacja w plazmie indukcyjnie sprzezonej (ICP-MS) PN-EN 14385:2005","categories":["environment"],"row_index":4,"parse_version":4,"parse_source":"agent-claude-code","methodology_en":"Concentration of: As, Cd, Cr, Co, Cu, Mn, Ni, Pb, Sb, Tl, V, Zn","parameters_en":[{"name":"As","range":"(0,001 - 2,00) mg/l"},{"name":"Cd","range":"(0,0001 - 2,00) mg/l"},{"name":"Cr","range":"(0,002 - 2,00) mg/l"},{"name":"Co","range":"(0,001 - 2,00) mg/l"},{"name":"Cu","range":"(0,01 - 2,00) mg/l"},{"name":"Mn","range":"(0,001 - 2,00) mg/l"},{"name":"Ni","range":"(0,01 - 2,00) mg/l"},{"name":"Pb","range":"(0,002 - 2,00) mg/l"},{"name":"Sb","range":"(0,001 - 2,00) mg/l"},{"name":"Tl","range":"(0,0001 - 2,00) mg/l"},{"name":"V","range":"(0,002 - 2,00) mg/l"},{"name":"Zn","range":"(0,01 - 2,00) mg/l"}],"search_en":"General environment: - waste gas samples collected into absorbing solution Concentration of: As, Cd, Cr, Co, Cu, Mn, Ni, Pb, Sb, Tl, V, Zn Inductively coupled plasma mass spectrometry (ICP-MS) As Cd Cr Co Cu Mn Ni Pb Sb Tl V Zn PN-EN 14385:2005","technique_en":"Inductively coupled plasma mass spectrometry (ICP-MS)","test_object_en":"General environment: - waste gas samples collected into absorbing solution","parameters_zh":[{"name":"As","range":"(0,001 - 2,00) mg/l"},{"name":"Cd","range":"(0,0001 - 2,00) mg/l"},{"name":"Cr","range":"(0,002 - 2,00) mg/l"},{"name":"Co","range":"(0,001 - 2,00) mg/l"},{"name":"Cu","range":"(0,01 - 2,00) mg/l"},{"name":"Mn","range":"(0,001 - 2,00) mg/l"},{"name":"Ni","range":"(0,01 - 2,00) mg/l"},{"name":"Pb","range":"(0,002 - 2,00) mg/l"},{"name":"Sb","range":"(0,001 - 2,00) mg/l"},{"name":"Tl","range":"(0,0001 - 2,00) mg/l"},{"name":"V","range":"(0,002 - 2,00) mg/l"},{"name":"Zn","range":"(0,01 - 2,00) mg/l"}],"search_zh":"电感耦合等离子体质谱法（ICP-MS） As Cd Cr Co Cu Mn Ni Pb Sb Tl V Zn PN-EN 14385:2005","technique_zh":"电感耦合等离子体质谱法（ICP-MS）"},{"_id":"6a7d7ab60636ba417e41b88a","lab_id":"69ad52a3de79e566650fb191","country":"PL","accr_number":"AB 274","accr_body":"PCA","test_object":"Tworzywa sztuczne","methodology":"Zawartość: Cd, Pb, Hg, Cr (roztwarzany)","parameters":[{"name":"Cd","range":"(0,0005 - 0,015) %"},{"name":"Pb","range":"(0,0010 - 0,10) %"},{"name":"Hg","range":"(0,0002 - 0,10) %"},{"name":"Cr (roztwarzany)","range":"(0,0005 - 0,10) %"}],"technique":"Metoda emisyjnej spektrometrii atomowej ze wzbudzeniem w plazmie indukcyjnie sprzężonej (ICP-OES)","techniques":["Metoda emisyjnej spektrometrii atomowej ze wzbudzeniem w plazmie indukcyjnie sprzężonej (ICP-OES)"],"computed":[],"activity":"Zawartość: Cd, Pb, Hg, Cr (roztwarzany)\nZakres:\nCd (0,0005 - 0,015) %\nPb (0,0010 - 0,10) %\nHg (0,0002 - 0,10) %\nCr (roztwarzany) (0,0005 - 0,10) %\nMetoda emisyjnej spektrometrii atomowej ze wzbudzeniem w plazmie indukcyjnie sprzężonej (ICP-OES)","reference":"PB-15/ML wyd. 1 z dn. 16.08.2021 r.","norm_bases":["PB-15/ML wyd. 1 z dn. 16.08.2021 r."],"lab_section":null,"lab_address":null,"regulatory_area":null,"flexible":false,"search_text":"Tworzywa sztuczne Zawartość: Cd, Pb, Hg, Cr (roztwarzany)\nZakres:\nCd (0,0005 - 0,015) %\nPb (0,0010 - 0,10) %\nHg (0,0002 - 0,10) %\nCr (roztwarzany) (0,0005 - 0,10) %\nMetoda emisyjnej spektrometrii atomowej ze wzbudzeniem w plazmie indukcyjnie sprzężonej (ICP-OES) PB-15/ML wyd. 1 z dn. 16.08.2021 r. Tworzywa sztuczne Zawartosc: Cd, Pb, Hg, Cr (roztwarzany)\nZakres:\nCd (0,0005 - 0,015) %\nPb (0,0010 - 0,10) %\nHg (0,0002 - 0,10) %\nCr (roztwarzany) (0,0005 - 0,10) %\nMetoda emisyjnej spektrometrii atomowej ze wzbudzeniem w plazmie indukcyjnie sprzezonej (ICP-OES) PB-15/ML wyd. 1 z dn. 16.08.2021 r.","categories":["materials"],"row_index":5,"parse_version":4,"parse_source":"agent-claude-code","methodology_en":"Content of: Cd, Pb, Hg, Cr (digested)","parameters_en":[{"name":"Cd","range":"(0,0005 - 0,015) %"},{"name":"Pb","range":"(0,0010 - 0,10) %"},{"name":"Hg","range":"(0,0002 - 0,10) %"},{"name":"Cr (digested)","range":"(0,0005 - 0,10) %"}],"search_en":"Plastics Content of: Cd, Pb, Hg, Cr (digested) Inductively coupled plasma optical emission spectrometry (ICP-OES) Cd Pb Hg Cr (digested) PB-15/ML wyd. 1 z dn. 16.08.2021 r.","technique_en":"Inductively coupled plasma optical emission spectrometry (ICP-OES)","test_object_en":"Plastics","parameters_zh":[{"name":"Cd","range":"(0,0005 - 0,015) %"},{"name":"Pb","range":"(0,0010 - 0,10) %"},{"name":"Hg","range":"(0,0002 - 0,10) %"},{"name":"Cr (roztwarzany)","range":"(0,0005 - 0,10) %"}],"search_zh":"塑料 电感耦合等离子体原子发射光谱法（ICP-OES） Cd Pb PB-15/ML wyd. 1 z dn. 16.08.2021 r.","technique_zh":"电感耦合等离子体原子发射光谱法（ICP-OES）","test_object_zh":"塑料"},{"_id":"6a7d7ab60636ba417e41b88b","lab_id":"69ad52a3de79e566650fb191","country":"PL","accr_number":"AB 274","accr_body":"PCA","test_object":"Tworzywa sztuczne","methodology":"Zawartość Cr (VI)","parameters":[{"name":"Zakres","range":"(0,004 – 0,1) %"}],"technique":"Metoda emisyjnej spektrometrii atomowej ze wzbudzeniem w plazmie indukcyjnie sprzężonej (ICP-OES)","techniques":["Metoda emisyjnej spektrometrii atomowej ze wzbudzeniem w plazmie indukcyjnie sprzężonej (ICP-OES)"],"computed":[],"activity":"Zawartość Cr (VI)\nZakres (0,004 – 0,1) %\nMetoda emisyjnej spektrometrii atomowej ze wzbudzeniem w plazmie indukcyjnie sprzężonej (ICP-OES)","reference":"PB-06/ML wyd. 3 z dnia 16.08.2021 r.","norm_bases":["PB-06/ML wyd. 3 z dnia 16.08.2021 r."],"lab_section":null,"lab_address":null,"regulatory_area":null,"flexible":false,"search_text":"Tworzywa sztuczne Zawartość Cr (VI)\nZakres (0,004 – 0,1) %\nMetoda emisyjnej spektrometrii atomowej ze wzbudzeniem w plazmie indukcyjnie sprzężonej (ICP-OES) PB-06/ML wyd. 3 z dnia 16.08.2021 r. Tworzywa sztuczne Zawartosc Cr (VI)\nZakres (0,004 – 0,1) %\nMetoda emisyjnej spektrometrii atomowej ze wzbudzeniem w plazmie indukcyjnie sprzezonej (ICP-OES) PB-06/ML wyd. 3 z dnia 16.08.2021 r.","categories":["materials"],"row_index":6,"parse_version":4,"parse_source":"agent-claude-code","methodology_en":"Cr (VI) content","parameters_en":[{"name":"Range","range":"(0,004 – 0,1) %"}],"search_en":"Plastics Cr (VI) content Inductively coupled plasma optical emission spectrometry (ICP-OES) Range PB-06/ML wyd. 3 z dnia 16.08.2021 r.","technique_en":"Inductively coupled plasma optical emission spectrometry (ICP-OES)","test_object_en":"Plastics","parameters_zh":[{"name":"范围","range":"(0,004 – 0,1) %"}],"search_zh":"塑料 电感耦合等离子体原子发射光谱法（ICP-OES） 范围 PB-06/ML wyd. 3 z dnia 16.08.2021 r.","technique_zh":"电感耦合等离子体原子发射光谱法（ICP-OES）","test_object_zh":"塑料"},{"_id":"6a7d7ab60636ba417e41b88c","lab_id":"69ad52a3de79e566650fb191","country":"PL","accr_number":"AB 274","accr_body":"PCA","test_object":"Miedź, cynk, cyna, glin i stopy miedzi, cynku, cyny, glinu","methodology":"Zawartość: Cd, Pb, Hg, Cr","parameters":[{"name":"Cd","range":"(0,0005 - 0,02) %"},{"name":"Pb","range":"(0,0005 - 0,20) %"},{"name":"Hg (0,0005 - 0,20 % Cr","range":"(0,0005 - 0,20 )%"}],"technique":"Metoda emisyjnej spektrometrii atomowej ze wzbudzeniem w plazmie indukcyjnie sprzężonej (ICP-OES)","techniques":["Metoda emisyjnej spektrometrii atomowej ze wzbudzeniem w plazmie indukcyjnie sprzężonej (ICP-OES)"],"computed":[],"activity":"Zawartość: Cd, Pb, Hg, Cr\nZakres:\nCd (0,0005 - 0,02) %\nPb (0,0005 - 0,20) %\nHg (0,0005 - 0,20 % Cr (0,0005 - 0,20 )%\nMetoda emisyjnej spektrometrii atomowej ze wzbudzeniem w plazmie indukcyjnie sprzężonej (ICP-OES)","reference":"PB-11/ML wyd. 2 z dn. 16.08.2021 r.","norm_bases":["PB-11/ML wyd. 2 z dn. 16.08.2021 r."],"lab_section":null,"lab_address":null,"regulatory_area":null,"flexible":false,"search_text":"Miedź, cynk, cyna, glin i stopy miedzi, cynku, cyny, glinu Zawartość: Cd, Pb, Hg, Cr\nZakres:\nCd (0,0005 - 0,02) %\nPb (0,0005 - 0,20) %\nHg (0,0005 - 0,20 % Cr (0,0005 - 0,20 )%\nMetoda emisyjnej spektrometrii atomowej ze wzbudzeniem w plazmie indukcyjnie sprzężonej (ICP-OES) PB-11/ML wyd. 2 z dn. 16.08.2021 r. Miedz, cynk, cyna, glin i stopy miedzi, cynku, cyny, glinu Zawartosc: Cd, Pb, Hg, Cr\nZakres:\nCd (0,0005 - 0,02) %\nPb (0,0005 - 0,20) %\nHg (0,0005 - 0,20 % Cr (0,0005 - 0,20 )%\nMetoda emisyjnej spektrometrii atomowej ze wzbudzeniem w plazmie indukcyjnie sprzezonej (ICP-OES) PB-11/ML wyd. 2 z dn. 16.08.2021 r.","categories":["materials"],"row_index":7,"parse_version":4,"parse_source":"agent-claude-code","methodology_en":"Content of: Cd, Pb, Hg, Cr","parameters_en":[{"name":"Cd","range":"(0,0005 - 0,02) %"},{"name":"Pb","range":"(0,0005 - 0,20) %"},{"name":"Hg (0,0005 - 0,20 % Cr","range":"(0,0005 - 0,20 )%"}],"search_en":"Copper, zinc, tin, aluminium and alloys of copper, zinc, tin, aluminium Content of: Cd, Pb, Hg, Cr Inductively coupled plasma optical emission spectrometry (ICP-OES) Cd Pb Hg (0,0005 - 0,20 % Cr PB-11/ML wyd. 2 z dn. 16.08.2021 r.","technique_en":"Inductively coupled plasma optical emission spectrometry (ICP-OES)","test_object_en":"Copper, zinc, tin, aluminium and alloys of copper, zinc, tin, aluminium","parameters_zh":[{"name":"Cd","range":"(0,0005 - 0,02) %"},{"name":"Pb","range":"(0,0005 - 0,20) %"},{"name":"Hg (0,0005 - 0,20 % Cr","range":"(0,0005 - 0,20 )%"}],"search_zh":"电感耦合等离子体原子发射光谱法（ICP-OES） Cd Pb PB-11/ML wyd. 2 z dn. 16.08.2021 r.","technique_zh":"电感耦合等离子体原子发射光谱法（ICP-OES）"},{"_id":"6a7d7ab60636ba417e41b88d","lab_id":"69ad52a3de79e566650fb191","country":"PL","accr_number":"AB 274","accr_body":"PCA","test_object":"Żelazo i stopy żelaza","methodology":"Zawartość: Cd, Pb, Hg, Cr, As","parameters":[{"name":"Cd","range":"(0,0005-0,02) %"},{"name":"Pb","range":"(0,0005-0,20) %"},{"name":"Hg (0,0005-0,20 % Cr","range":"(0,0005-0,20 )%"},{"name":"As","range":"(0,0005-0,20) %"}],"technique":"Metoda emisyjnej spektrometrii atomowej ze wzbudzeniem w plazmie indukcyjnie sprzężonej (ICP-OES)","techniques":["Metoda emisyjnej spektrometrii atomowej ze wzbudzeniem w plazmie indukcyjnie sprzężonej (ICP-OES)"],"computed":[],"activity":"Zawartość: Cd, Pb, Hg, Cr, As\nZakres:\nCd (0,0005-0,02) %\nPb (0,0005-0,20) %\nHg (0,0005-0,20 % Cr (0,0005-0,20 )%\nAs (0,0005-0,20) %\nMetoda emisyjnej spektrometrii atomowej ze wzbudzeniem w plazmie indukcyjnie sprzężonej (ICP-OES)","reference":"PB-11/ML wyd. 2 z dn. 16.08.2021 r.","norm_bases":["PB-11/ML wyd. 2 z dn. 16.08.2021 r."],"lab_section":null,"lab_address":null,"regulatory_area":null,"flexible":false,"search_text":"Żelazo i stopy żelaza Zawartość: Cd, Pb, Hg, Cr, As\nZakres:\nCd (0,0005-0,02) %\nPb (0,0005-0,20) %\nHg (0,0005-0,20 % Cr (0,0005-0,20 )%\nAs (0,0005-0,20) %\nMetoda emisyjnej spektrometrii atomowej ze wzbudzeniem w plazmie indukcyjnie sprzężonej (ICP-OES) PB-11/ML wyd. 2 z dn. 16.08.2021 r. Zelazo i stopy zelaza Zawartosc: Cd, Pb, Hg, Cr, As\nZakres:\nCd (0,0005-0,02) %\nPb (0,0005-0,20) %\nHg (0,0005-0,20 % Cr (0,0005-0,20 )%\nAs (0,0005-0,20) %\nMetoda emisyjnej spektrometrii atomowej ze wzbudzeniem w plazmie indukcyjnie sprzezonej (ICP-OES) PB-11/ML wyd. 2 z dn. 16.08.2021 r.","categories":["other"],"row_index":8,"parse_version":4,"parse_source":"agent-claude-code","methodology_en":"Content of: Cd, Pb, Hg, Cr, As","parameters_en":[{"name":"Cd","range":"(0,0005-0,02) %"},{"name":"Pb","range":"(0,0005-0,20) %"},{"name":"Hg (0,0005-0,20 % Cr","range":"(0,0005-0,20 )%"},{"name":"As","range":"(0,0005-0,20) %"}],"search_en":"Iron and iron alloys Content of: Cd, Pb, Hg, Cr, As Inductively coupled plasma optical emission spectrometry (ICP-OES) Cd Pb Hg (0,0005-0,20 % Cr As PB-11/ML wyd. 2 z dn. 16.08.2021 r.","technique_en":"Inductively coupled plasma optical emission spectrometry (ICP-OES)","test_object_en":"Iron and iron alloys","parameters_zh":[{"name":"Cd","range":"(0,0005-0,02) %"},{"name":"Pb","range":"(0,0005-0,20) %"},{"name":"Hg (0,0005-0,20 % Cr","range":"(0,0005-0,20 )%"},{"name":"As","range":"(0,0005-0,20) %"}],"search_zh":"电感耦合等离子体原子发射光谱法（ICP-OES） Cd Pb As PB-11/ML wyd. 2 z dn. 16.08.2021 r.","technique_zh":"电感耦合等离子体原子发射光谱法（ICP-OES）"},{"_id":"6a7d7ab60636ba417e41b88e","lab_id":"69ad52a3de79e566650fb191","country":"PL","accr_number":"AB 274","accr_body":"PCA","test_object":"Środowisko ogólne – próbki gazów odlotowych i powietrza pobrane do roztworu pochłaniającego","methodology":"Stężenie rtęci","parameters":[{"name":"Zakres","range":"(0,01 - 500) μg w próbce"}],"technique":"Metoda absorpcyjnej spektrometrii atomowej z generowaniem zimnych par rtęci (CVAAS)","techniques":["Metoda absorpcyjnej spektrometrii atomowej z generowaniem zimnych par rtęci (CVAAS)"],"computed":[],"activity":"Stężenie rtęci\nZakres (0,01 - 500) μg w próbce\nMetoda absorpcyjnej spektrometrii atomowej z generowaniem zimnych par rtęci (CVAAS)","reference":"PN-EN 13211+AC:2006","norm_bases":["PN-EN 13211+AC:2006"],"lab_section":null,"lab_address":null,"regulatory_area":null,"flexible":false,"search_text":"Środowisko ogólne – próbki gazów odlotowych i powietrza pobrane do roztworu pochłaniającego Stężenie rtęci\nZakres (0,01 - 500) μg w próbce\nMetoda absorpcyjnej spektrometrii atomowej z generowaniem zimnych par rtęci (CVAAS) PN-EN 13211+AC:2006 Srodowisko ogolne – probki gazow odlotowych i powietrza pobrane do roztworu pochlaniajacego Stezenie rteci\nZakres (0,01 - 500) μg w probce\nMetoda absorpcyjnej spektrometrii atomowej z generowaniem zimnych par rteci (CVAAS) PN-EN 13211+AC:2006","categories":["environment"],"row_index":9,"parse_version":4,"parse_source":"agent-claude-code","methodology_en":"Mercury concentration","parameters_en":[{"name":"Range","range":"(0,01 - 500) μg w próbce"}],"search_en":"General environment – waste gas and air samples collected into absorbing solution Mercury concentration Mercury cold vapour atomic absorption spectrometry (CVAAS) Range PN-EN 13211+AC:2006","technique_en":"Mercury cold vapour atomic absorption spectrometry (CVAAS)","test_object_en":"General environment – waste gas and air samples collected into absorbing solution","methodology_zh":"汞浓度","parameters_zh":[{"name":"范围","range":"(0,01 - 500) μg w próbce"}],"search_zh":"汞浓度 汞冷蒸气原子吸收光谱法（CVAAS） 范围 PN-EN 13211+AC:2006","technique_zh":"汞冷蒸气原子吸收光谱法（CVAAS）"},{"_id":"6a7d7ab60636ba417e41b88f","lab_id":"69ad52a3de79e566650fb191","country":"PL","accr_number":"AB 274","accr_body":"PCA","test_object":"Środowisko ogólne – próbki gazów odlotowych i powietrza pobrane na filtry","methodology":"Stężenie rtęci","parameters":[{"name":"Zakres","range":"(0,01 - 500) μg w próbce"}],"technique":"Metoda absorpcyjnej spektrometrii atomowej z generowaniem zimnych par rtęci (CVAAS)","techniques":["Metoda absorpcyjnej spektrometrii atomowej z generowaniem zimnych par rtęci (CVAAS)"],"computed":[],"activity":"Stężenie rtęci\nZakres (0,01 - 500) μg w próbce\nMetoda absorpcyjnej spektrometrii atomowej z generowaniem zimnych par rtęci (CVAAS)","reference":"PN-EN 13211+AC:2006","norm_bases":["PN-EN 13211+AC:2006"],"lab_section":null,"lab_address":null,"regulatory_area":null,"flexible":false,"search_text":"Środowisko ogólne – próbki gazów odlotowych i powietrza pobrane na filtry Stężenie rtęci\nZakres (0,01 - 500) μg w próbce\nMetoda absorpcyjnej spektrometrii atomowej z generowaniem zimnych par rtęci (CVAAS) PN-EN 13211+AC:2006 Srodowisko ogolne – probki gazow odlotowych i powietrza pobrane na filtry Stezenie rteci\nZakres (0,01 - 500) μg w probce\nMetoda absorpcyjnej spektrometrii atomowej z generowaniem zimnych par rteci (CVAAS) PN-EN 13211+AC:2006","categories":["environment"],"row_index":10,"parse_version":4,"parse_source":"agent-claude-code","methodology_en":"Mercury concentration","parameters_en":[{"name":"Range","range":"(0,01 - 500) μg w próbce"}],"search_en":"General environment – waste gas and air samples collected on filters Mercury concentration Mercury cold vapour atomic absorption spectrometry (CVAAS) Range PN-EN 13211+AC:2006","technique_en":"Mercury cold vapour atomic absorption spectrometry (CVAAS)","test_object_en":"General environment – waste gas and air samples collected on filters","methodology_zh":"汞浓度","parameters_zh":[{"name":"范围","range":"(0,01 - 500) μg w próbce"}],"search_zh":"汞浓度 汞冷蒸气原子吸收光谱法（CVAAS） 范围 PN-EN 13211+AC:2006","technique_zh":"汞冷蒸气原子吸收光谱法（CVAAS）"},{"_id":"6a7d7ab60636ba417e41b890","lab_id":"69ad52a3de79e566650fb191","country":"PL","accr_number":"AB 274","accr_body":"PCA","test_object":"Rudy miedzi, koncentraty miedzi i produkty flotacji","methodology":"Zawartość Cu","parameters":[{"name":"Zakres","range":"(0,040 - 46,31) %"}],"technique":"Metoda emisyjnej spektrometrii atomowej ze wzbudzeniem w plazmie indukcyjnie sprzężonej (ICP-OES)","techniques":["Metoda emisyjnej spektrometrii atomowej ze wzbudzeniem w plazmie indukcyjnie sprzężonej (ICP-OES)"],"computed":[],"activity":"Zawartość Cu\nZakres (0,040 - 46,31) %\nMetoda emisyjnej spektrometrii atomowej ze wzbudzeniem w plazmie indukcyjnie sprzężonej (ICP-OES)","reference":"PB-05/ML wyd. 2 z dnia 16.08.2021 r.","norm_bases":["PB-05/ML wyd. 2 z dnia 16.08.2021 r."],"lab_section":null,"lab_address":null,"regulatory_area":null,"flexible":false,"search_text":"Rudy miedzi, koncentraty miedzi i produkty flotacji Zawartość Cu\nZakres (0,040 - 46,31) %\nMetoda emisyjnej spektrometrii atomowej ze wzbudzeniem w plazmie indukcyjnie sprzężonej (ICP-OES) PB-05/ML wyd. 2 z dnia 16.08.2021 r. Rudy miedzi, koncentraty miedzi i produkty flotacji Zawartosc Cu\nZakres (0,040 - 46,31) %\nMetoda emisyjnej spektrometrii atomowej ze wzbudzeniem w plazmie indukcyjnie sprzezonej (ICP-OES) PB-05/ML wyd. 2 z dnia 16.08.2021 r.","categories":["other"],"row_index":11,"parse_version":4,"parse_source":"agent-claude-code","methodology_en":"Cu content","parameters_en":[{"name":"Range","range":"(0,040 - 46,31) %"}],"search_en":"Copper ores, copper concentrates and flotation products Cu content Inductively coupled plasma optical emission spectrometry (ICP-OES) Range PB-05/ML wyd. 2 z dnia 16.08.2021 r.","technique_en":"Inductively coupled plasma optical emission spectrometry (ICP-OES)","test_object_en":"Copper ores, copper concentrates and flotation products","parameters_zh":[{"name":"范围","range":"(0,040 - 46,31) %"}],"search_zh":"Cu 含量 电感耦合等离子体原子发射光谱法（ICP-OES） 范围 PB-05/ML wyd. 2 z dnia 16.08.2021 r.","technique_zh":"电感耦合等离子体原子发射光谱法（ICP-OES）","methodology_zh":"Cu 含量"},{"_id":"6a7d7ab60636ba417e41b891","lab_id":"69ad52a3de79e566650fb191","country":"PL","accr_number":"AB 274","accr_body":"PCA","test_object":"Sprzęt elektryczny i elektroniczny oraz jego elementy polimerowe, tekstylne, papierowe i elektroniczne, materiały stosowane do produkcji sprzętu elektrycznego i elektronicznego oraz opakowań","methodology":"Zawartość polibromowanych bifenyli (PBB) i polibromowanych eterów","parameters":[{"name":"difenylowych (PBDE)"},{"name":"Mono-BB"},{"name":"Di-BB"},{"name":"Tri-BB"},{"name":"Tetra-BB"},{"name":"Penta-BB"},{"name":"Heksa-BB"},{"name":"Hepta-BB"},{"name":"Okta-BB"},{"name":"Nona-BB"},{"name":"Deka-BB"},{"name":"Mono-BDE"},{"name":"Di-BDE"},{"name":"Tri-BDE"},{"name":"Tetra-BDE"},{"name":"Penta-BDE"},{"name":"Heksa-BDE"},{"name":"Hepta-BDE"},{"name":"Okta-BDE"},{"name":"Nona-BDE"},{"name":"Deka-BDE"},{"name":"Zakres","range":"(0,005 - 0,06) %"}],"technique":"Metoda chromatografii gazowej z detekcją spektrometrią mas (GC-MS)","techniques":["Metoda chromatografii gazowej z detekcją spektrometrią mas (GC-MS)"],"computed":[],"activity":"Zawartość polibromowanych bifenyli (PBB) i polibromowanych eterów\nZakres:\ndifenylowych (PBDE)\nMono-BB\nDi-BB\nTri-BB\nTetra-BB\nPenta-BB\nHeksa-BB\nHepta-BB\nOkta-BB\nNona-BB\nDeka-BB\nMono-BDE\nDi-BDE\nTri-BDE\nTetra-BDE\nPenta-BDE\nHeksa-BDE\nHepta-BDE\nOkta-BDE\nNona-BDE\nDeka-BDE\nZakres (0,005 - 0,06) %\nMetoda chromatografii gazowej z detekcją spektrometrią mas (GC-MS)","reference":"PB-08/ML wyd. 3 z dn. 16.08.2021 r.","norm_bases":["PB-08/ML wyd. 3 z dn. 16.08.2021 r."],"lab_section":null,"lab_address":null,"regulatory_area":null,"flexible":false,"search_text":"Sprzęt elektryczny i elektroniczny oraz jego elementy polimerowe, tekstylne, papierowe i elektroniczne, materiały stosowane do produkcji sprzętu elektrycznego i elektronicznego oraz opakowań Zawartość polibromowanych bifenyli (PBB) i polibromowanych eterów\nZakres:\ndifenylowych (PBDE)\nMono-BB\nDi-BB\nTri-BB\nTetra-BB\nPenta-BB\nHeksa-BB\nHepta-BB\nOkta-BB\nNona-BB\nDeka-BB\nMono-BDE\nDi-BDE\nTri-BDE\nTetra-BDE\nPenta-BDE\nHeksa-BDE\nHepta-BDE\nOkta-BDE\nNona-BDE\nDeka-BDE\nZakres (0,005 - 0,06) %\nMetoda chromatografii gazowej z detekcją spektrometrią mas (GC-MS) PB-08/ML wyd. 3 z dn. 16.08.2021 r. Sprzet elektryczny i elektroniczny oraz jego elementy polimerowe, tekstylne, papierowe i elektroniczne, materialy stosowane do produkcji sprzetu elektrycznego i elektronicznego oraz opakowan Zawartosc polibromowanych bifenyli (PBB) i polibromowanych eterow\nZakres:\ndifenylowych (PBDE)\nMono-BB\nDi-BB\nTri-BB\nTetra-BB\nPenta-BB\nHeksa-BB\nHepta-BB\nOkta-BB\nNona-BB\nDeka-BB\nMono-BDE\nDi-BDE\nTri-BDE\nTetra-BDE\nPenta-BDE\nHeksa-BDE\nHepta-BDE\nOkta-BDE\nNona-BDE\nDeka-BDE\nZakres (0,005 - 0,06) %\nMetoda chromatografii gazowej z detekcja spektrometria mas (GC-MS) PB-08/ML wyd. 3 z dn. 16.08.2021 r.","categories":["materials","electronics"],"row_index":12,"parse_version":4,"parse_source":"agent-claude-code","methodology_en":"Content of polybrominated biphenyls (PBB) and polybrominated ethers","parameters_en":[{"name":"diphenyl ethers (PBDE)"},{"name":"Mono-BB"},{"name":"Di-BB"},{"name":"Tri-BB"},{"name":"Tetra-BB"},{"name":"Penta-BB"},{"name":"Hexa-BB"},{"name":"Hepta-BB"},{"name":"Octa-BB"},{"name":"Nona-BB"},{"name":"Deca-BB"},{"name":"Mono-BDE"},{"name":"Di-BDE"},{"name":"Tri-BDE"},{"name":"Tetra-BDE"},{"name":"Penta-BDE"},{"name":"Hexa-BDE"},{"name":"Hepta-BDE"},{"name":"Octa-BDE"},{"name":"Nona-BDE"},{"name":"Deca-BDE"},{"name":"Range","range":"(0,005 - 0,06) %"}],"search_en":"Electrical and electronic equipment and its polymer, textile, paper and electronic components, materials used in the manufacture of electrical and electronic equipment and packaging Content of polybrominated biphenyls (PBB) and polybrominated ethers Gas chromatography with mass spectrometry detection (GC-MS) diphenyl ethers (PBDE) Mono-BB Di-BB Tri-BB Tetra-BB Penta-BB Hexa-BB Hepta-BB Octa-BB Nona-BB Deca-BB Mono-BDE Di-BDE Tri-BDE Tetra-BDE Penta-BDE Hexa-BDE Hepta-BDE Octa-BDE Nona-BDE Deca-BDE Range PB-08/ML wyd. 3 z dn. 16.08.2021 r.","technique_en":"Gas chromatography with mass spectrometry detection (GC-MS)","test_object_en":"Electrical and electronic equipment and its polymer, textile, paper and electronic components, materials used in the manufacture of electrical and electronic equipment and packaging","parameters_zh":[{"name":"difenylowych (PBDE)"},{"name":"Mono-BB"},{"name":"Di-BB"},{"name":"Tri-BB"},{"name":"Tetra-BB"},{"name":"Penta-BB"},{"name":"Heksa-BB"},{"name":"Hepta-BB"},{"name":"Okta-BB"},{"name":"Nona-BB"},{"name":"Deka-BB"},{"name":"Mono-BDE"},{"name":"Di-BDE"},{"name":"Tri-BDE"},{"name":"Tetra-BDE"},{"name":"Penta-BDE"},{"name":"Heksa-BDE"},{"name":"Hepta-BDE"},{"name":"Okta-BDE"},{"name":"Nona-BDE"},{"name":"Deka-BDE"},{"name":"范围","range":"(0,005 - 0,06) %"}],"search_zh":"电气与电子设备及其高分子、纺织、纸质与电子部件，电气与电子设备及包装生产用材料 气相色谱-质谱法（GC-MS） 范围 PB-08/ML wyd. 3 z dn. 16.08.2021 r.","technique_zh":"气相色谱-质谱法（GC-MS）","test_object_zh":"电气与电子设备及其高分子、纺织、纸质与电子部件，电气与电子设备及包装生产用材料"},{"_id":"6a7d7ab60636ba417e41b892","lab_id":"69ad52a3de79e566650fb191","country":"PL","accr_number":"AB 274","accr_body":"PCA","test_object":"Sprzęt elektryczny i elektroniczny oraz jego elementy polimerowe, tekstylne, papierowe i elektroniczne, materiały stosowane do produkcji sprzętu elektrycznego i elektronicznego oraz opakowań","methodology":"Zawartość ftalanów DIBP - Di-iso-butyl ftalan DBP - Dibutyl ftalan BBP - Benzyl butyl ftalan DEHP - Di-(2-ethylhexyl) ftalan DMEP - Di-(2-methoxyethyl) ftalan DIPP - Di-izo-pentylu ftalan nPIPP - N-pentyl-izo-pentylu ftalan DNPP - Di-n-pentyl ftalan DNHP - Di-n-hexyl ftalan","parameters":[{"name":"Zakres","range":"(0,025 – 0,200) %"}],"technique":"Metoda chromatografii gazowej z detekcją spektrometrią mas (GC-MS)","techniques":["Metoda chromatografii gazowej z detekcją spektrometrią mas (GC-MS)"],"computed":[],"activity":"Zawartość ftalanów DIBP - Di-iso-butyl ftalan DBP - Dibutyl ftalan BBP - Benzyl butyl ftalan DEHP - Di-(2-ethylhexyl) ftalan DMEP - Di-(2-methoxyethyl) ftalan DIPP - Di-izo-pentylu ftalan nPIPP - N-pentyl-izo-pentylu ftalan DNPP - Di-n-pentyl ftalan DNHP - Di-n-hexyl ftalan\nZakres (0,025 – 0,200) %\nMetoda chromatografii gazowej z detekcją spektrometrią mas (GC-MS)","reference":"PB-09/ML wyd. 3 z dn. 16.08.2021 | PN-EN 62321-8:2017","norm_bases":["PB-09/ML wyd. 3 z dn. 16.08.2021","PN-EN 62321-8:2017"],"lab_section":null,"lab_address":null,"regulatory_area":null,"flexible":false,"search_text":"Sprzęt elektryczny i elektroniczny oraz jego elementy polimerowe, tekstylne, papierowe i elektroniczne, materiały stosowane do produkcji sprzętu elektrycznego i elektronicznego oraz opakowań Zawartość ftalanów DIBP - Di-iso-butyl ftalan DBP - Dibutyl ftalan BBP - Benzyl butyl ftalan DEHP - Di-(2-ethylhexyl) ftalan DMEP - Di-(2-methoxyethyl) ftalan DIPP - Di-izo-pentylu ftalan nPIPP - N-pentyl-izo-pentylu ftalan DNPP - Di-n-pentyl ftalan DNHP - Di-n-hexyl ftalan\nZakres (0,025 – 0,200) %\nMetoda chromatografii gazowej z detekcją spektrometrią mas (GC-MS) PB-09/ML wyd. 3 z dn. 16.08.2021 | PN-EN 62321-8:2017 Sprzet elektryczny i elektroniczny oraz jego elementy polimerowe, tekstylne, papierowe i elektroniczne, materialy stosowane do produkcji sprzetu elektrycznego i elektronicznego oraz opakowan Zawartosc ftalanow DIBP - Di-iso-butyl ftalan DBP - Dibutyl ftalan BBP - Benzyl butyl ftalan DEHP - Di-(2-ethylhexyl) ftalan DMEP - Di-(2-methoxyethyl) ftalan DIPP - Di-izo-pentylu ftalan nPIPP - N-pentyl-izo-pentylu ftalan DNPP - Di-n-pentyl ftalan DNHP - Di-n-hexyl ftalan\nZakres (0,025 – 0,200) %\nMetoda chromatografii gazowej z detekcja spektrometria mas (GC-MS) PB-09/ML wyd. 3 z dn. 16.08.2021 | PN-EN 62321-8:2017","categories":["materials","electronics"],"row_index":13,"parse_version":4,"parse_source":"agent-claude-code","methodology_en":"Phthalate content DIBP - Di-iso-butyl phthalate DBP - Dibutyl phthalate BBP - Benzyl butyl phthalate DEHP - Di-(2-ethylhexyl) phthalate DMEP - Di-(2-methoxyethyl) phthalate DIPP - Di-iso-pentyl phthalate nPIPP - N-pentyl-iso-pentyl phthalate DNPP - Di-n-pentyl phthalate DNHP - Di-n-hexyl phthalate","parameters_en":[{"name":"Range","range":"(0,025 – 0,200) %"}],"search_en":"Electrical and electronic equipment and its polymer, textile, paper and electronic components, materials used in the manufacture of electrical and electronic equipment and packaging Phthalate content DIBP - Di-iso-butyl phthalate DBP - Dibutyl phthalate BBP - Benzyl butyl phthalate DEHP - Di-(2-ethylhexyl) phthalate DMEP - Di-(2-methoxyethyl) phthalate DIPP - Di-iso-pentyl phthalate nPIPP - N-pentyl-iso-pentyl phthalate DNPP - Di-n-pentyl phthalate DNHP - Di-n-hexyl phthalate Gas chromatography with mass spectrometry detection (GC-MS) Range PB-09/ML wyd. 3 z dn. 16.08.2021 | PN-EN 62321-8:2017","technique_en":"Gas chromatography with mass spectrometry detection (GC-MS)","test_object_en":"Electrical and electronic equipment and its polymer, textile, paper and electronic components, materials used in the manufacture of electrical and electronic equipment and packaging","parameters_zh":[{"name":"范围","range":"(0,025 – 0,200) %"}],"search_zh":"电气与电子设备及其高分子、纺织、纸质与电子部件，电气与电子设备及包装生产用材料 气相色谱-质谱法（GC-MS） 范围 PB-09/ML wyd. 3 z dn. 16.08.2021 | PN-EN 62321-8:2017","technique_zh":"气相色谱-质谱法（GC-MS）","test_object_zh":"电气与电子设备及其高分子、纺织、纸质与电子部件，电气与电子设备及包装生产用材料"}],"has_pdf":true}